[其他]一種離子轟擊減薄裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 88206944 | 申請日： | 1988-06-17 |
| 公開（公告）號： | CN88206944U | 公開（公告）日： | 1988-12-28 |
| 發(fā)明（設計）人： | 王鳳蓮;褚一鳴;陸珉華 | 申請（專利權）人： | 中國科學院半導體研究所 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 中國科學院專利事務所 | 代理人： | 盧紀 |
| 地址： | 北京市9*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本實用新型公開了一種新的離子轟擊減薄裝置，它既可以選用氬離子束流轟擊樣品，又可以選用碘離子束流轟擊樣品，設在樣品室兩側的碘蒸氣升華腔為形成碘離子束提供碘蒸氣流。利用這種裝置能夠制備更多種材料的薄膜樣品，滿足透射電子顯微鏡的觀測需求。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 一種 離子 轟擊 裝置 | ||
【主權項】：
1、一種供制備透射電子顯微鏡觀測樣品用的離子轟擊減薄裝置，其特征為，在所設樣品室兩側各接一個氣流選通閥，選通閥的一個氣流選擇通道連通樣品室與設在兩側的氬氣入口，它的另一選擇通道連通樣品室與設在兩側的碘蒸氣升華腔。
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