[其他]一種離子轟擊減薄裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 88206944 | 申請(qǐng)日： | 1988-06-17 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN88206944U | 公開（公告）日： | 1988-12-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王鳳蓮;褚一鳴;陸珉華 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號(hào)： | G01N1/28 | 分類號(hào)： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 中國(guó)科學(xué)院專利事務(wù)所 | 代理人： | 盧紀(jì) |
| 地址： | 北京市9*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 離子 轟擊 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種供制備透射電子顯微鏡觀測(cè)樣品用的離子轟擊減薄裝置，其特征為，在所設(shè)樣品室兩側(cè)各接一個(gè)氣流選通閥，選通閥的一個(gè)氣流選擇通道連通樣品室與設(shè)在兩側(cè)的氬氣入口，它的另一選擇通道連通樣品室與設(shè)在兩側(cè)的碘蒸氣升華腔。
2、按照權(quán)利要求1所述離子轟擊減薄裝置的特征為，所述設(shè)在樣品室兩側(cè)的碘蒸氣升華腔及其連通樣品室的選擇通道是被安置在恒溫室內(nèi)，恒溫室的控制溫度可以在室溫～25℃至60℃的范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
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