[其他]含鈮冶金渣制取光學級氧化鈮的方法無效
| 申請號： | 86108543 | 申請日： | 1986-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN86108543A | 公開（公告）日： | 1988-07-13 |
| 發明（設計）人： | 周昆吟;王鴻儒;王靜;張立賢 | 申請（專利權）人： | 包鋼鋼鐵研究所 |
| 主分類號： | C01G33/00 | 分類號： | C01G33/00 |
| 代理公司： | 包頭市專利事務所 | 代理人： | 吳克宇,郭官厚 |
| 地址： | 內蒙古自*** | 國省代碼： | 內蒙古;15 |
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| 摘要： | 本發明涉及一種氧化鈮的制取方法，特別是用含鈮冶金渣制取光學級氧化鈮的新方法。本發明采用化學處理富集和仲辛醇萃取提純，即H2SO4酸洗、HF—H2SO4浸出、仲辛醇萃取、低酸和純水分段反萃的工藝流程，制取純度＞99.95％的光學級氧化鈮。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 冶金 制取 光學 氧化 方法 | ||
【主權項】：
1、一種制取氧化鈮的方法，特別是制取光學級氧化鈮的方法，其特征在于以含鈮冶金渣為原料，采用化學處理富集和溶劑萃取提純，工藝流程分為：①渣→破碎→球磨→酸洗→酸浸→調酸→料液，調整固液比，控制酸度、溫度和時間；②料液→萃取→洗滌→反萃→沉淀→灼燒→氧化鈮。選擇醇類萃取劑和混酸體系，調整相比O/A(即有機相/水相)，控制酸度、溫度和時間。
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