[其他]制備透明的無光霧的氧化錫涂層的方法無效
| 申請號： | 86103417 | 申請日： | 1986-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN86103417A | 公開（公告）日： | 1986-11-12 |
| 發明（設計）人： | 喬治·海倫瑞琦·林德納 | 申請（專利權）人： | M和T化學制品有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/40 | 分類號： | C23C16/40;C03C17/245 |
| 代理公司： | 上海專利事務所 | 代理人： | 楊國勝 |
| 地址： | 美國新澤西州0709*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 本發明涉及一種用氣化的液態單苯基錫化三氯通過化學汽相沉積法在玻璃上制備透明的、無光霧的氧化錫涂層的方法。 | ||
| 搜索關鍵詞： | 制備 透明 光霧 氧化 涂層 方法 | ||
【主權項】：
1、一種制備透明的無光霧的氧化錫涂層的方法，其特征在于蒸發單苯基錫化三氯(monophenyltintrichloride)和把上述蒸發物在一種含氧的氣氛中與高襯底溫度中的一種襯底接觸。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
