[其他]制備透明的無光霧的氧化錫涂層的方法無效
| 申請號: | 86103417 | 申請日: | 1986-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN86103417A | 公開(公告)日: | 1986-11-12 |
| 發明(設計)人: | 喬治·海倫瑞琦·林德納 | 申請(專利權)人: | M和T化學制品有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/40 | 分類號: | C23C16/40;C03C17/245 |
| 代理公司: | 上海專利事務所 | 代理人: | 楊國勝 |
| 地址: | 美國新澤西州0709*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 透明 光霧 氧化 涂層 方法 | ||
1、一種制備透明的無光霧的氧化錫涂層的方法,其特征在于蒸發單苯基錫化三氯(monophenyltintrichloride)和把上述蒸發物在一種含氧的氣氛中與高襯底溫度中的一種襯底接觸。
2、根據權利要求1所述的一種方法,其進一步特征在于所述的襯底溫度約是450℃到600℃。
3、根據權利要求1所述的一種方法,其進一步特征在于所述的襯底是玻璃。
4、根據權利要求1所述的一種方法,其進一步特征在于所述的襯底上生成一層無光霧的氧化錫內涂層(頭道涂層)膜,然后在其上面蒸鍍所要求的氧化錫涂層,從而氧化錫外涂層呈現上述內涂層的無光霧特性。
5、根據權利要求4所述的一種方法,其進一步特征在于所述的氧化錫外涂層是一種傳導性的氧化錫涂層。
6、根據權利要求5所述的一種方法,其進一步特征在于所述的傳導性的氧化錫外涂層是由單烷基錫化三氯(monoalkyltin??trichloride)和一種氟摻雜劑所生成的。
7、根據權利要求6所述的一種方法,其進一步特征在于所述的傳導性的氧化錫涂層是由單丁基錫化三氯(monobutyltin??trichloride)和三氟乙酸(trifluoroacetic??acid)所蒸鍍的。
8、根據權利要求4所述的一種方法,其進一步特征在于所述的內涂層具有的厚度至少為10毫微米(nm)。
9、根據權利要求1所述的一種方法,其特征在于該方法用來制造一種包括玻璃片的透明的、非虹彩的紅外反射玻璃窗結構,在上述玻璃片的一個主表面上涂上一層紅外反射氧化錫涂層和上述玻璃片反面涂上一層減少虹彩的氧化錫涂層,上述的減少虹彩的氧化錫涂層是無光霧的,而且用單苯基錫化三氯(monophenyltin??trichloride)在含氧氣氛中與上述玻璃片接觸而制備的。
10、根據權利要求9所述的一種方法,其進一步特征在于所述的紅外反射層包括:一內涂層,該涂層是由單苯基錫化三氯所制備的無光霧的氧化錫層,和一外涂紅外反射氧化錫層,該外涂層呈現內涂層的無光霧特性。
11、根據權利要求9所述的一種方法,用來制造雙料玻璃窗結構,至少包括兩個透明的,非虹彩的紅外反射玻璃窗結構,其進一步特征在于該結構是將該兩個紅外反射的氧化錫層的表面相互面對面地來裝配的。
12、根據權利要求11所述的一種方法,其進一步特征在于該方法包括一玻璃窗,在它的內表面上具有一層透明的紅外反射涂層,而在另外玻璃窗的內表面上具有一層減少虹彩的涂層。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





