[其他]新型太陽能反光材料及制備技術(shù)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85107406 | 申請日： | 1985-10-09 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN85107406A | 公開（公告）日： | 1986-07-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 郭信章 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京市太陽能研究所 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/34 | 分類號(hào)： | C23C14/34;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京市科技專利事務(wù)所 | 代理人： | 韓建功 |
| 地址： | 北京市海淀*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | 一種在不銹鋼、碳鋼、合金、玻璃、陶瓷及能耐溫300℃左右高分子材料涂層上用磁控濺射方法制備ZrNx，TiNx及其它元素合金化合物的太陽能反光膜的工藝制備技術(shù)。在膜生成的磁控濺射過程中通過對基體如偏壓來提高膜的反光率，改善表面狀況，從而可得到光學(xué)性能和耐候性能優(yōu)良的金屬氮化物反光膜。該種反光膜具有成本低，壽命長，制備工藝簡單等特點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于太陽能領(lǐng)域和其它裝飾鍍領(lǐng)域。 | ||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 新型 太陽能 反光 材料 制備 技術(shù) | ||
【主權(quán)項(xiàng)】：
1、一種反光鍍膜，其特征在于用磁控濺射方法在不銹鋼，碳鋼，其它合金材料，玻璃，陶瓷及能耐溫300℃左右高分子材料涂層表面上制備ZrNx，TiNx及Zr，Ti與其它元素合金的化合物的反光鍍膜。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
