[發明專利]抑制PDEIV之吡啶衍生物類有效
| 申請號: | 99804737.6 | 申請日: | 1999-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN1295571A | 公開(公告)日: | 2001-05-16 |
| 發明(設計)人: | E·J·E·弗雷納;G·S·M·代爾斯;M·E·馬特桑茲-巴萊斯特羅斯;A·迪亞斯-馬蒂內茲 | 申請(專利權)人: | 詹森藥業有限公司 |
| 主分類號: | C07D401/06 | 分類號: | C07D401/06;C07D407/14;A61K31/44 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 溫宏艷,鐘守期 |
| 地址: | 比利時*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抑制 pdeiv 吡啶 衍生 物類 | ||
1.一種具下式之化合物
其中:
L為氫;C1-6烷基;經1或2個選自下列之取代基所取代之C1-6烷基:羥基,C1-4烷氧基,C1-4烷氧羰基,單-及二(C1-4烷基)胺基,芳基及Het2;C3-6烯基;經芳基取代之C3-6烯基;C1-6烷基羰基;C1-6烷氧羰基;哌啶基;經C1-4烷基或芳基C1-4烷基取代之哌啶基;C1-6烷基磺酰基或芳基磺酰基;
-A-B-為下式之二價基:
-CR4=CR5-???????(a-1);或
-CHR4-CHR5-?????(a-2)
D為O或NR6;
Q為下式之基
R1為氫或C1-4烷基;
或R1或R2一起可形成式-(CH2)m-之二價基,其中m為1,2,3或4;
R2為氫;鹵素;C1-6烷基;三氟甲基;C3-6環烷基;羧基;C1-4烷氧羰基;C3-6環烷基胺基羰基;芳基;Het1;或經氰基,胺基,羥基,C1-4烷基羰基胺基,芳基或Het1取代之C1-6烷基;或
R2為下式之基:
-O-R9-?????(c-1);或
-NH-R10?????(c-2);
R3為氫,鹵素,羥基,C1-6烷基或C1-6烷氧基;或R2及R3一起形成下式之二價基:
-(CH2)n-??????????????????????????(d-1);
-CH2-CH2-O-CH2-CH2-?????????(d-2);
-CH2-CH2-N(R11)-CH2-CH2-????(d-3);或
-CH2-CH=CH-CH2-?????????????????(d-4);
其中n為2,3,4或5;
R4及R5各自獨立選自氫或C1-4烷基;
R6為氫,C1-4烷基或氰基;
R7及R8各自獨立為氫;C1-6烷基;二氟甲基;三氟甲基;C3-6環烷基;飽和5-,6-或7-元含有1或2個各自獨立選自氧,硫或氮之雜原子的雜環基;2,3-二氫化茚基;6,7-二氫-5H-環戊吡啶基;二環[2.2.1]-2-庚烯基;二環[2.2.1]庚烷基;C1-6烷基磺酰基;芳基磺酰基;或經1或2個各自獨立選自芳基,吡啶基,噻吩基;呋喃基,2,3-二氫化茚基,6,7-二氫-5H-環戊基吡啶基,C3-7環烷基及飽和5-,6-或7-元含1或2個各自獨立選自氧,硫或氮之雜原子的雜環基之取代基所取代的C1-10烷基;
R9為氫;C1-6烷基;經羥基,羧基,C1-4烷氧羰基,胺基,單-或二(C1-4烷基)胺基,Het1或芳基所取代之C1-6烷基;
R10為氫;C1-6烷基;C1-4烷基羰基;經羥基,羧基,C1-4烷氧羰基,胺基,單-或二(C1-4烷基)胺基,Het1或芳基所取代之C1-6烷基;
R11為氫;C1-6烷基,C1-6烷基磺酰基或對-甲苯磺酰基;
芳基為苯基或經1,2或3個各自獨立選自鹵素,羥基,C1-4烷基,C1-4烷氧基,C3-6環烷基,三氟甲基,胺基,硝基,羧基,C1-4烷氧羰基及C1-4烷基羰基胺基之取代基所取代的苯基;
Het1為吡啶基;經C1-4烷基取代之吡啶基;呋喃基;經C1-4烷基取代之呋喃基;噻吩基;經C1-4烷基羰基胺基取代之噻吩基;羥基吡啶基,經C1-4烷基或C1-4烷氧基C1-4烷基取代之羥基吡啶基;咪唑基;經C1-4烷基取代之咪唑基;噻唑基;經C1-4烷基取代之噻唑基;噁唑基;經C1-4烷基取代之噁唑基;異喹啉基;經C1-4烷基取代之異喹啉基;喹啉并基;經C1-4烷基取代之喹啉并基;嗎啉基;哌啶基;經C1-4烷基,C1-4烷氧羰基或芳基C1-4烷基取代之哌啶基;哌嗪基;經C1-4烷基,C1-4烷氧羰基或芳基C1-4烷基取代之哌嗪基;且
Het2為嗎啉基;哌啶基;經C1-4烷基或芳基C1-4烷基取代之哌啶基;哌嗪基;經C1-4烷基或芳基C1-4烷基取代之哌嗪基;吡啶基;經C1-4烷基取代之吡啶基;呋喃基;經C1-4烷基取代之呋喃基;噻吩基或經C1-4烷基或C1-4烷基羰基胺基取代之噻吩基;
其N-氧化物型式,制藥上可接受的酸或堿加成鹽類及立體化學異構型式。
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