[發(fā)明專利]三氟甲磺酸的硅烷基化方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 99803250.6 | 申請(qǐng)日: | 1999-02-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN1291985A | 公開(公告)日: | 2001-04-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | N·路克斯;G·弗拉特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 羅狄亞化學(xué)公司 |
| 主分類號(hào): | C07F7/08 | 分類號(hào): | C07F7/08 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 王杰 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三氟甲磺酸 硅烷 方法 | ||
1.通式Ⅰ化合物的硅烷基化方法:
RfS(O)mOH????(Ⅰ)其中
-Rf表示下式的基團(tuán):
-(CX2)p-GEA其中:
-符號(hào)X可以相同或不同,表示氟原子或式CnF2n+1的基團(tuán),其中n
是最大等于5的整數(shù),優(yōu)選等于2;
-P表示最大等于2的整數(shù);
-符號(hào)GEA表示其可能的官能團(tuán)在反應(yīng)條件下是惰性的吸電子基團(tuán),有利地為氟原子或式CnF2n+1的全氟化基團(tuán),其中n是最大等于3的整數(shù),有利地等于2;
-m表示等于1或2的整數(shù),其特征在于硅烷基化試劑是下式的衍生物
Si(R)4其中R表示飽和的直鏈或支鏈C1-C6烷基,并且所述的硅烷基化試劑與通式Ⅰ的化合物在至少一種通式Ⅱ化合物存在下反應(yīng)
Si(R)2(H)(Y)其中R如上定義并且Y表示鹵原子。
2.權(quán)利要求1的方法,其特征在于硅烷基化反應(yīng)在還有至少一種式Ⅲ化合物存在下進(jìn)行
Si(R)3(Y)和/或Si(R)(H)(Y)2????Ⅲ其中R和Y如權(quán)利要求1所定義。
3.權(quán)利要求1或2的方法,其特征在于四烷基硅烷以與至少一種通式Ⅱ化合物以及必要時(shí)至少一種通式Ⅲ化合物的混合物的形式被使用。
4.權(quán)利要求2或3的方法,其特征在于四烷基硅烷占所述混合物重量的約85-95%。
5.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于待硅烷基化的化合物是其中基團(tuán)Rf的碳原子總數(shù)在1-5之間,優(yōu)選在1-3之間的通式Ⅰ化合物。
6.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于待硅烷基化的化合物是通式CnF2n+1-SO3H的化合物,其中n最多等于5。
7.權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)的方法,其特征在于通式Ⅰ的化合物是三氟甲磺酸。
8.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于所述硅烷基化試劑是四甲基硅烷。
9.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于三氟甲磺酸的硅烷基化反應(yīng)是用四甲基硅烷在至少是二甲基氯硅烷存在下進(jìn)行。
10.權(quán)利要求9的方法,其特征在于硅烷基化反應(yīng)在還有甲基二氯硅烷和三甲基氯硅烷存在下進(jìn)行。
11.權(quán)利要求8、9或10的方法,其特征在于四甲基硅烷以與二甲基氯硅烷和可能的甲基二氯硅烷和/或三甲基氯硅烷的混合物的形式加入。
12.權(quán)利要求11的方法,其特征在于四烷基硅烷占所述混合物重量的85-95%。
13.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于所用的硅烷基化試劑比通式Ⅰ的化合物稍微過量。
14.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于硅烷基化反應(yīng)在約0-5℃的溫度下進(jìn)行。
15.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于通過蒸餾反應(yīng)混合物回收最終的硅烷基化衍生物。
16.上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,其特征在于以大于99%的純度水平回收硅烷基化衍生物。
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