[發明專利]電攝影光電導體用基體以及使用該基體的電攝影光電導體

有效

• 申請號: 98117574.0
• 申請日: 1998-07-15
• 公開（公告）號: CN1206852A
• 公開（公告）日: 1999-02-03
• 發明（設計）人: 矢萩秀隆;田村幸久;坂口雅章;中岸豐
• 申請（專利權）人: 富士電機株式會社
• 主分類號: G03G5/10
• 分類號: G03G5/10
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 黃淑輝

本發明涉及一種用于電攝影光電導體的鋁基體，其表面覆蓋有陽極化的鋁膜。本發明還涉及使用該鋁基體的電攝影光電導體。

到現在為止，在電攝影術方面的技術進步已經在復印機領域，并且近來已經在激光打印機等領域中采用。與那些常規的擊打式打印機相比，該激光打印機可提供優質的圖像質量并允許高速而安靜的打印操作。因此，大多數現存的記錄設備如打印機和復印機采用電攝影技術。安裝在那些記錄設備的每種電攝影光電導體(下文，也簡稱為光電導體)是通過在導電基體上形成光電導層而制備的。在大多數光電導體中，每種光電導體具有由有機材料組成的光電導層，因此該光電導體是特指有機光電導體。另外，現在通常的做法是將每種光電導體制成功能上獨立的層的結構(即該光電導體被分成兩個不同的層)，其中一層底涂層、一層電荷生成層和一層電荷遷移層按此順序疊加在基體上。該底涂層可以通過兩種不同方法中的一種來制備。在第一種方法中，將一種一般為聚酰胺或蜜胺樹脂基材料涂覆于基體表面。另一方面，在第二種方法中，通過陽極氧化法在鋁基體的表面上形成陽極化膜(下文，簡稱為膜)。一般地，該第二種方法在高溫和高濕度環境下的可靠性方面具有優勢。

典型地，將有機材料作為光電導層材料使用的有機光電導體是通過濕法涂覆技術形成的，該方法包括將基體浸漬于含有溶解于或分散于溶劑中的有機材料的涂料浴液中的步驟。應滿足光電導體的質量標準為涂膜應當均勻(即無粗糙或凸凹不平)且無任何類型的缺陷。因此，所涂膜的均勻性主要取決于基體的表面狀況(即均勻性)，特別是在使用濕法涂覆的情況下。

當使用其表面上具有膜的基體時，光電導體自身的質量幾乎完全取決于陽極氧化處理后經封閉處理的基體的表面狀況。表面狀況此處是指表面均勻的可濕性，因此該涂膜應在其整個表面上具有均勻的可濕性。現已明白，當可濕性不均勻時，該光敏層的厚度(特別是，該電荷生成層的厚度)變得不均勻，導致在打印質量評估時的缺陷如“密度不均勻”。

在涂覆該光敏層的步驟之前，如果在基體的表面上殘余有雜質諸如氧化物和離子，則將造成成像缺陷如“黑點”和“霧翳”。因此，雜質一般通過用堿或酸對基體進行洗滌而去除。然而，當膜的封閉狀態不充分時，雜質在該洗滌步驟中不能得以充分的去除，所以經常導致“黑點”或“霧翳”。為了確定該封閉狀態是否充分，其標準是容許值(Y20)。根據本發明，認為該值(Y20)最好是小于70μS。為減少容許值(Y20)，需要在較高溫度下封閉處理較長時間。因此，可以在至少80℃溫度下處理10分鐘以得到小于70μS的值。

在此描述下，根據由日本工業標準委員會(Japanese?IndustrialStandards?Committee)制定的“鋁和鋁合金上的陽極氧化涂層的密封質量的測試方法(Test?methods?for?sealing?quality?of?anodic?oxidecoatings?on?aluminum?and?aluminum?alloys)”，JIS日本工業標準(Japanese?Industrial?Standard)H8683(1994)，該容許值(admittancevalue，Y20)是膜厚度為20μm的換算值。

對涉及經過陽極氧化后經過封閉處理的膜的表面狀態的任何因素的各種研究的結果表明，表面微結構的改變實質上影響可濕性。一般地，剛剛進行完陽極氧化處理后的表面結構為六方柱狀微晶粒結構，其中心部分存在直徑約為100埃的微小砂孔。封閉這些砂孔的處理是指封閉處理，其中該膜在沸水或蒸汽中發生水合以使膜膨脹從而將砂孔封閉，或通常使用醋酸鎳溶液，該砂孔通過膜的水合反應和醋酸鎳的水解所產生的氫氧化鎳的填充相結合而得以封閉。

然而，發現在任何上述處理中，在水合反應的作用下該膜在水平和垂直方向(膜厚度方向)上呈網狀地出現異常地生長，導致凸凹不平表面，其特別影響的光敏層中的浸漬涂覆法可濕性，并且當膜在高溫下處理時，該影響尤為顯著。而且，對網狀表面的封閉處理在整個表面上是不均勻的，因此趨于產生不均勻性。

那么，本發明的一個目的是提供一種用于電攝影光電導體的基體，容許值(Y20)可達到70μS或更低，沿垂直方向膜的生長受到抑制，并且具有均勻而光滑的高可濕性表面并具有高封閉度，以及使用該基體的電攝影光電導體。

為解決上述現有技術中的問題，發明人進行了深入的研究并發現通過向現有技術的封閉劑中加入一種特定的表面活性劑和類似物可以抑制膜沿垂直方向生長并可獲得均勻而光滑的表面，該表面具有良好的可濕性和高封閉度，在此基礎上完成了本發明。