[發明專利]電攝影光電導體用基體以及使用該基體的電攝影光電導體有效
| 申請號： | 98117574.0 | 申請日： | 1998-07-15 |
| 公開（公告）號： | CN1206852A | 公開（公告）日： | 1999-02-03 |
| 發明（設計）人： | 矢萩秀隆;田村幸久;坂口雅章;中岸豐 | 申請（專利權）人： | 富士電機株式會社 |
| 主分類號： | G03G5/10 | 分類號： | G03G5/10 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人： | 黃淑輝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 攝影 電導 體用 基體 以及 使用 光電 導體 | ||
1、一種制備用于電攝影光電導體的基體的方法，包括下列步驟：
在鋁基體的表面上形成陽極氧化膜；
向封閉劑中加入選自磷酸酯(鹽)型表面活性劑、萘磺酸鹽(酯)型甲醛縮合物和雙酚A磺酸鹽(酯)型甲醛縮合物的添加劑以制備封閉劑混合物；以及
用所述封閉劑混合物向所述基體提供封閉處理。
2、根據權利要求1的制備方法，其中所述封閉劑為醋酸鎳。
3、根據權利要求1的制備方法，其中所述封閉劑為純水。
4、用于電攝影光電導體的基體，包括：
鋁基體；和
形成于所述基體上的陽極氧化膜；
其中將所述鋁基體用封閉劑混合物進行封閉處理，該封閉劑混合物是通過向封閉劑中加入選自磷酸酯(鹽)型表面活性劑、萘磺酸鹽(酯)型甲醛縮合物和雙酚A磺酸鹽(酯)型甲醛縮合物的添加劑而制備的。
5、根據權利要求4的用于電攝影光電導體的基體，其中所述封閉劑為醋酸鎳。
6、根據權利要求4的用于電攝影光電導體的基體，其中所述封閉劑為純水。
7、根據權利要求4的用于電攝影光電導體的基體，其中容許值為70μS或更低。
8、一種具有至少一個導電基體和一層層壓在所述導電基體上的光敏膜的電攝影光電導體，其中
所述導電基體是由鋁基體制得，所述基體具有陽極氧化膜并進一步用封閉劑混合物進行封閉處理，該封閉劑混合物是通過向封閉劑中加入選自磷酸酯(鹽)型表面活性劑、萘磺酸鹽(酯)型甲醛縮合物和雙酚A磺酸鹽(酯)型甲醛縮合物的添加劑而制備的。
9、根據權利要求8的電攝影光電導體，其中所述封閉劑為醋酸鎳。
10、根據權利要求8的電攝影光電導體，其中所述封閉劑為純水。
11、根據權利要求8的電攝影光電導體，其中所述導電基體的容許值為70μS或更低。
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