[發(fā)明專利]低摩擦鍍層

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 97180588.1
• 申請日: 1997-12-10
• 公開（公告）號: CN1240486A
• 公開（公告）日: 2000-01-05
• 發(fā)明（設計）人: V·比里多－科薩勒茨
• 申請（專利權）人: 金科有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C16/30
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 段承恩

1.一種金屬硫化物鍍層組合物，其特征在于所述組合物還含有硅和氟。

2.一種如權利要求1所述的金屬硫化物鍍層組合物，其中所述金屬選自于Mo、W、Ti、Nb、Ta、Zr和Hf中之一種或多種。

3.一種如權利要求1或2所述的金屬硫化物鍍層組合物，還含有選自于C、B、Al、V、Cr、Fe、Co、Ni、Sm、Au、Cu、Zn、Sn、Pb、N、H和O中之一種或多種元素。

4.一種具有式M_xSi_vR_yS_zF_w的金屬硫化物鍍層組合物，其中：

M是選自于Mo、Ti、W、Nb、Ta、Zr和Hf中之一種或多種金屬；

Si是硅；

R是選自于C、B、Al、V、Cr、Fe、Co、Ni、Sm、Au、Cu、Zn、Sn、Pb、N、H和O中之一種或多種元素；

S是硫；

F是氟；

X為0.2-1.5；

V為0.02-3；

Y為0-4；

Z為0.2-6；以及

W為0.01-6，并且其中，X、Y、Z、V和W按原子比給出。

5.一種方法，該方法采用真空離子或等離子技術，在一沉積裝置中，將一低摩擦的金屬硫化物鍍層沉積在基材上，其特征在于將硅和氟或它們的前體引入到所述沉積裝置中。

6.一種產(chǎn)品，該產(chǎn)品上鍍覆有如權利要求1-4中之任一項所述的金屬硫化物鍍層組合物的或者該產(chǎn)品由如權利要求5所述方法制成。