[發(fā)明專利]一種制備金屬及合金薄膜的金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 96102145.4
• 申請(qǐng)日: 1996-02-10
• 公開（公告）號(hào): CN1069932C
• 公開（公告）日: 2001-08-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孟廣耀;黃磊;陳初升;楊萍華;彭定坤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C16/18
• 分類號(hào): C23C16/18
• 代理公司: 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)專利事務(wù)所
• 代理人: 汪祥虬

1．一種制備金屬及合金薄膜的方法，以低壓熱化學(xué)氣相淀積法為基礎(chǔ)，其特征在于采用鹵素?zé)艋蚪?jīng)過聚焦的普通紅外光源，使揮發(fā)性的金屬的β-二酮類螯合物源受光照揮發(fā)后，與還原性氣氛混合，在熱的襯底表面上反應(yīng)，從而在襯底上獲得金屬或合金薄膜。

2．如權(quán)利要求1所述制備金屬及合金薄膜的方法，特征在于在制備合金薄膜時(shí)，采用單一混合源技術(shù)，即將各源物質(zhì)按照合金薄膜的組分配比要求進(jìn)行混合，形成單一混合源；并選用同一配體的金屬的β-二酮類螯合物源，或選用升華溫度相近的不同配體的金屬的β-二酮類螯合物源。

3．如權(quán)利要求1所述制備金屬及合金薄膜的方法，特征在于采用密封方法使多孔襯底的孔隙成為β-二酮類源物質(zhì)和還原性氣氛相互連通的唯一通道，以制備介孔復(fù)合膜。

4．一種制備金屬及合金薄膜的金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積反應(yīng)裝置，特征在于該裝置包括由源輸運(yùn)室(7)、冷卻區(qū)(10)、光照區(qū)(11)和設(shè)置有襯底支架(14)的反應(yīng)室(12)依次串聯(lián)而成的真空系統(tǒng)；以一端封有軟鐵的細(xì)長開槽玻璃管為源舟，置于源輸運(yùn)室內(nèi)；在輸運(yùn)室外用磁鐵牽引置于輸運(yùn)室內(nèi)的軟鐵帶動(dòng)源舟進(jìn)入光照區(qū)；采用鹵素?zé)艋蚪?jīng)過聚焦的普通紅外光源作為光照光源。