[發明專利]含有沉淀白炭黑顆粒及燒結粘土的聚酯薄膜

無效

• 申請號: 94117069.1
• 申請日: 1994-10-14
• 公開（公告）號: CN1106740A
• 公開（公告）日: 1995-08-16
• 發明（設計）人: J·A·西迪奎;P·D·A·米爾斯
• 申請（專利權）人: 帝國化學工業泛美公司
• 主分類號: B29C55/12
• 分類號: B29C55/12;//B29K10516
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 劉元金,楊厚昌

本發明涉及一種聚合物薄膜，具體涉及一種其中含有組合填料的聚合物薄膜及其制法。

線型聚酯薄膜或片材商品化已有多年，此種聚合物薄膜具有優異的拉伸取向，并已證明特別適合于生產具有優異性能薄膜的雙軸薄膜取向工藝。已知為聚對苯二甲酸乙二醇酯即PET的聚合物膜是有強度的，并具有固有的化學穩定性及熱穩定性。此聚合物制備及薄膜制造方法都是本領域專業人員公知的，并在許多文獻中有敘述，這些文獻包括John?Wiley?&?Sons.?Inc出版的《聚合物科學與工程百科全書》（Encyclopedia?of?Polymer?Science?and?Engineering）第二版，卷12，第1至313頁、及許多美國及外國專利。

眾所周知，聚合物薄膜經常具有較差的輸送、處置性能，這當將此薄膜纏繞到高質量卷筒時可能會產生困難，也不能有效地通過加工設備，比如縱切機?？梢酝ㄟ^增大薄膜表面糙度，適當地使用涂層，或者加入填料-即有機或無機粒子到薄膜中來改進薄膜的輸送、處置性能?？梢越Y合使用涂層及填料來改進薄膜的輸送、處置性能。使用涂層改進此性能時的問題是，涂層限制了薄膜可以應用的使用范圍，因為在涂布可能被要求提供例如抗靜電性、增粘性或剝離性的附加涂層時會遇到困難。

范圍很廣的填料被加到薄膜中，以改進輸送、處置性能，比如在美國專利5，132，356和5，137，939中所述的玻璃珠和氣相法白炭黑（即二氧化硅，下同）；美國專利4，274，025中公開的無機材料，包括合成白炭黑、硼酸鈣、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鋇、硅酸鈣或硅酸鋁以及玻璃珠。盡管這些填料提供了改進，一般含有這些填料的薄膜被限制在特定的用途中。

在薄膜中加入微細粒子填料特別是在加工聚合物的過程中會引起許多問題。一般希望在聚合之前就向樹脂系統中加入填料。然而，這就要求填料經歷聚合反應及連帶的反應條件，這些條件要額外對填料有所考慮。工藝條件比如為完成聚合反應所需的熱量、時間、攪拌和壓力可引起填料發生反應、分解、附聚等。因此，填料的加工性能可能引起許多加工的問題。

在廣泛的薄膜應用領域中，如在包裝、鍍金屬膜、復印薄膜和一般工業用膜中，光學清晰度及透明度是個重要標準。對于表現出高透光度、低霧度及具有優異輸送、處置性能的薄膜及對其使用范圍及加工性能更廣的填料都有持續的需求。此外，目前對于那些含有當兩層或多層這樣的薄膜緊密接觸時不大會引起表面劃傷的填料系統的薄膜的需求不斷增長。

本發明意外地克服了或基本減輕了一個或幾個前述的問題。

因此，本發明提供了一種具有優異的輸送處置性能，包括改進了的防粘連性、減輕的折皺性、起疙瘩性和縱向（MD）起皺性的薄膜。

本發明的另一個方面是提供一種含有比較軟，使得在加工薄膜和以后使用此薄膜時不會劃傷鄰層薄膜表面的填料顆粒的薄膜。

本發明的又一個方面是提供一種不僅具有優異的輸送、處置性能，而且具有低霧度和良好光學清晰度的聚酯薄膜。

本發明還有一個方面是提供一種加入了具有良好加工性能的組合填料的聚酯薄膜。

本發明再有一個方面是提供一種加入了當經歷聚合反應和處于反應條件下時，不反應、不分解或不凝聚的組合填料的聚酯薄膜。

本發明涉及在其內部含有具有一定粒度、基于聚酯薄膜的重量的特定含量的組合沉淀白炭黑和燒結粘土的線型聚酯薄膜或片材。加入這些填料改善了薄膜的幾種性能，包括了輸送、處置性能，而同時保持了可接受的光學清晰度和透光性，本發明還涉及這種薄膜或片材的制造方法。

本發明涉及含有在其中加入了由（a）平均粒度小于15微米、含量占聚合物重量的25～500ppm的沉淀白炭黑；（b）含量超過聚合物重量的10，000ppm的燒結粘土組成的組合填料的聚酯聚合物的聚酯薄膜。

在實施本發明時可以使用的沉淀白炭黑顆粒由SiO₂組成，可以是改性的，也可是未改性的?？梢杂酶鞣N技術、工藝和化合物，特別是那些傾向于使顆粒更疏水的那些化合物對這些白炭黑粒子進行改性。推薦使用W.R.Grace公司的銷售的商標為SYLOID的沉淀白炭黑顆粒。

本發明的沉淀白炭黑一般平均粒度為1～10微米，更一般為2～8微米。沉淀白炭黑含量不大，基于聚合物重量的重量含量在30～350ppm之間，更好為50～250ppm，最好為100～200ppm。