[發明專利]薄膜形成裝置無效
| 申請號： | 91104119.2 | 申請日： | 1991-06-15 |
| 公開（公告）號： | CN1057492A | 公開（公告）日： | 1992-01-01 |
| 發明（設計）人： | 伊藤弘基 | 申請（專利權）人： | 三菱電機株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/32 | 分類號： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 上海專利事務所 | 代理人： | 顏承根 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 薄膜 形成 裝置 | ||
【權利要求書】：
1、一種薄膜形成裝置具有：
保持一定真空度的真空室；
設置在該真空室內的基板；
蒸氣發生源，該蒸氣發生源由與該基板相對設置、并向該基板噴出蒸鍍物質蒸氣而使之產生蒸鍍物質結團粒子的坩堝，加熱該坩堝的加熱用線圈，隔絕由加熱用線圈發出熱量的絕熱板構成；
使部分所述結團粒子電離的電離裝置；和
賦予由該電離裝置電離的結團粒子與未被電離的蒸鍍物質結團粒子或蒸氣以動能使其向所述基板碰撞的加速裝置，
其特征在于還具有，
除去由所述電離裝置電離的結團粒子中較小尺度的結團粒子的過濾裝置。
2、如權利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于所述加速裝置是由正偏置的加速電極和相對該加速電極成負偏置的引出電極，以及接地的接地電極構成。
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