[發(fā)明專利]研磨方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 89104037.4
• 申請(qǐng)日: 1989-06-15
• 公開（公告）號(hào): CN1040933A
• 公開（公告）日: 1990-04-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 威利;布郎;安格斯;約翰;哈茨霍恩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 帝國(guó)澳大利亞軍品獨(dú)占有限公司
• 主分類號(hào): B02C17/00
• 分類號(hào): B02C17/00;B01F17/16
• 代理公司: 上海專利事務(wù)所
• 代理人: 徐志奇

1、一種用于研磨陶瓷粉末的方法，包括在足以使有效研磨的一定數(shù)量分散劑存在下，將該粉末放置在一種研磨介質(zhì)中，該分散劑選自至少具有沸點(diǎn)最大值為100℃的氨和一種烷基胺。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種方法，其特征在于其中所述的分散劑選自甲胺和乙胺。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種方法，其特征在于其中所述的分散劑為氨。

4、根據(jù)權(quán)利要求1-3的任何一個(gè)所述的一種方法，其特征在于其中所述的研磨在一個(gè)磨碎機(jī)中進(jìn)行的。

5、根據(jù)權(quán)利要求1-4的任何一個(gè)所述的一種方法，其特征在于其中所述的研磨系采用0.8-3.0毫米直徑的研磨介質(zhì)進(jìn)行。

6、根據(jù)權(quán)利要求1-5的任何一個(gè)所述的一種方法，其特征在于其中存在的研磨介質(zhì)的量是這樣的，其平均間距為50-90微米。

7、一種通過權(quán)利要求1-6的任何一個(gè)方法的制備的陶瓷粉末。