[發明專利]研磨方法

無效

• 申請號: 89104037.4
• 申請日: 1989-06-15
• 公開（公告）號: CN1040933A
• 公開（公告）日: 1990-04-04
• 發明（設計）人: 威利;布郎;安格斯;約翰;哈茨霍恩
• 申請（專利權）人: 帝國澳大利亞軍品獨占有限公司
• 主分類號: B02C17/00
• 分類號: B02C17/00;B01F17/16
• 代理公司: 上海專利事務所
• 代理人: 徐志奇

本發明涉及一種研磨陶瓷粉末的方法。

隨著近來陶瓷材料如氧化鋯在先進技術應用中用途的增加，制備細粒的、純的陶瓷粉末就具有相當大的意義。研磨物質至微小尺寸的技術是眾所周知的，且可用任何在這技術領域中已知的慣用的方法。為了在該研磨方法中保持一合適的液流，必需用一種分散劑。在更有效且因此更廣泛應用中，該分散劑為有機化合物，這類化合物之一為胺類如三乙醇胺和2-氨基，2-甲基丙醇（AMP）。

應用這種胺的方法已生產出細粒的陶瓷粉末，已發現它在市場上易于被接受。然而，它們并不是對所有的用途均合適;主要是因為殘留的有機物質粘附于顆粒的表面。許多陶瓷制品的制造廠希望他們所采用的陶瓷粉末完全沒有任何這種有機殘留物。至今，這僅通過在顆粒表面上的另一種更可接受的物質的優先吸附以置換該有機物質，或通過讓該粉末經受一合適的高溫以燒掉該有機殘留物來達到（該陶瓷粉末本身不受該處理的影響）。但是，該燃燒方法給出一種更難再分散的粉末。這些附加的方法還增加了最終產物的成本。

現在已發現研磨陶瓷粉末以給出一種沒有有機物質的細粒粉末是可能的。因此，根據本發明提供了一種用于研磨陶瓷粉末的方法，包括在足以有效研磨的一定數量的分散劑存在下，將該粉末放置在一種研磨介質中，該分散劑選自至少具有沸點最大值為100℃的氨和一種烷基胺。

本發明出人意料的是氨和低分子量烷基胺一般不被認為是分散劑。“烷基胺”當然是指結構式為NR¹R²R³的化合物，其中R¹，R²和R³選自氫和C₁-C₄烷基基團，至少R¹，R²和R³之一為-C₁-C₄烷基基團。對氨是特別優先的，因為氨不僅很易揮發（這樣無剩余物留在磨碎的顆粒上），價廉和相對地無毒性，而且在這些陶瓷系統中，它也顯示出驚人的高分散作用和潤濕性。因此氨基是較好的物質，但也可用烷基胺如甲胺和乙胺。應用一種或多種這些分散劑的混合物是可能的和容許的。

該用于本發明的陶瓷粉末包括任何用于制造優質陶瓷的陶瓷粉末。這些包括氧化鋯（純的或用，例如，氧化釔，氧化鎂或氧化硅改性的），氧化釔，氧化鋁，四氮化三硅和碳化硅，以及這些陶瓷粉末的混合物。

在其中進行研磨陶瓷粉末的設備可為任何適合于這種目的的設備。它可為，例如，一種球磨機，一種經攪拌的介質碾磨機（如一種磨碎機），一種砂研磨機或一種球磨機。特別好的設備為一種磨碎機，一種相對低能耗設備，其工作的方式實際上使容器壁不會引起剝蝕，這樣不會帶來最后成品的污染。

用于研磨的介質可為任何適合于研磨陶瓷粉末，例如，氧化釔改性氧化鋯的球狀物，滑石的球狀物或鋼的球狀物。在一個特好的具體實例中，在一個經攪拌的介質碾磨機中的顆粒尺寸為0.8-3.0毫米的精磨介質的混合物，該介質的量為這樣，平均間距為50-90微米，為一種特好的介質。這樣一個混合物在待批（copending）澳大利亞專利申請第23770/88號中描述且在本發明的過程中給出特好的結果。

加入足量的分散劑以產生效率高的研磨，即這樣該研磨設備的容量保持在一個合適的流體狀態下且研磨在一個合理的快速率下進行。這通過眼睛容易確定-如果該容量呈一種厚漿濃度且不易流動，則需要更多的分散劑。在常溫下，這是以一種在水中的溶液的形式加入（其中該分散劑為一種氣體，氨或甲胺）的形式，或其中分散劑直接為一種液體加入。

當研磨完全時，該磨碎的陶瓷粉末可通過任何該領域中已知的方法回收。蒸發該分散劑，留下一種準備應用的細粒的、沒有有機物的陶瓷粉末。

本發明通過下列實施例進一步描述。

實施例1????制備一種陶瓷粉末

一種表面積為5.0米²克^-1的氧化釔改性氧化鋯粉末在水中，在一個用0.8毫米的氧化釔改性氧化鋯介質的磨碎機中磨碎（ex Shinegawa公司，日本）。以在氧化鋯重量的2%NH₃的比值加入氫氧化銨，且能使在一粉末載荷率（在粉末加水混合物中粉末的重量百分數）為60%下進行研磨。