[其他]三環吡啶酮衍生物及其制備方法

無效

• 申請號: 88103535
• 申請日: 1988-06-10
• 公開（公告）號: CN88103535A
• 公開（公告）日: 1988-12-28
• 發明（設計）人: 烏爾里希·韋德馬
• 申請（專利權）人: 霍夫曼-拉羅奇有限公司
• 主分類號: C07D471/04
• 分類號: C07D471/04;C07D495/14;A61K31/50;//;22100;23700)
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 楊鋼

1、制備下面通式A化合物和當式A化合物具有一個或多個堿性取代基的藥物上可接受的酸加成鹽的方法，

式中Ra代表任意由鹵，三氟甲基，硝基，低級烷基或低級烷氧基取代的苯基，吡啶基或噻吩基；Rb，Rc連同由α標記的碳原子是代表任意由鹵，三氟甲基，低級烷基，低級烷氧基，硝基，氨基或一或二(低級烷基)氨基取代的式(a)-S-CH=CH-，(b)-CH=CH-S-或(c)-CH=CH-CH=CH-基團；Rd代表式-(A¹)m-(CO)n-(Q¹A²)q-R¹基團，m，n和q分別代表數0或1，A¹表示低級亞烷基，A²表示低級亞烷基，直接的鍵或-CO-基團，Q¹代表一個氧原子或-NR²-基團，R¹表示氫，羥基，氰基，硝基，鹵，低級烷氧基，低級烷基，低級烷氧羰基，芳基，或-NR³R⁴基團或通過一個碳原子相連的5元飽和，部分不飽和或芳族雜環，該環可以任意由一個或二個低級烷基取代，以及任意由一個(C_3-6)環烷基，羥基，低級烷氧基，低級烷酰氧基，低級羥烷基，低級烷氧烷基，低級烷酰氧基烷基，低級烷氧羰基，低級烷酰基，氨基甲酰基，一或二(低級烷基)氨基甲酰基，氧代或亞烷二氧基，R²表示氫，低級烷基或芳基，R³和R⁴分別表示氫，低級烷基，低級烷氧烷基，低級二烷氧烷基，低級亞烷二氧基烷基，低級氰基烷基，低級囟代烷基，低級羥基烷基，低級二羥基烷基，低級烷酰基，低級烷氧羰基或任意由羥基，低級烷氧基，低級烷酰氧基，低級羥烷基，低級烷氧烷基，低級烷酰氧基烷基，氧代，氨基甲酰基，一或二(低級烷基)氨基甲酰基或低級亞烷二氧基取代的(C_3-7)環烷基，或R³和R⁴與氮原子一起代表一個3至7元的飽和N-雜環，該雜環可任意由一個或二個低級烷基取代，和任意由一個或二個羥基，低級烷氧基，低級烷酰氧基，低級羥烷基，低級烷氧烷基，低級烷酰氧基烷基，低級烷氧羰基，低級烷酰基，氨基甲酰基，一或二(低級烷基)氨基甲酰基，氧代或低級亞烷二氧基取代，并且雜環能含有作為環組成的氧或硫原子或基團，R⁵代表氫，低級烷基，低級羥烷基，低級烷氧烷基，低級烷酰氧烷基，低級烷酰基，低級烷氧羰基，氨基甲酰基或一或二(低級烷基)氨基甲酰基；Re代表氫，低級烷基，低級烷酰基，芳基羧基，芳基(低級烷酰基)，芳基(低級烷基)或低級鏈烯基；Rf代表氫或低級烷基，當q代表數字1和A²為基團-CO-時，n須為數字0；當q代表數字0和n代表數字1或q代表數字1和A²為基團-CO-時，R¹須不為氰基，硝基，鹵或低級烷氧羰基；當q代表數字1和A²為一個直接的鍵時，R¹須不為羥基，氰基，硝基，鹵，低級烷氧羰基，低級烷氧基和-NR³R⁴，本方法包括

1)任意在甲酸存在下，用氫硼化堿金屬或其衍生物還原下式I化合物，

實質Ra，Rb，Rc，Rd和Rf定義如前，或

2)式Re¹-X與下式化合物進行烷基化或酰化反應

式中Ra，Rb，Rc，Rd和Rf定義如前，X為離去基團，Re¹為低級烷基，低級烷酰基，芳基羰基，芳基低級烷酰基，芳基低級烷基或低級鏈烯基，或

3)在有任何強堿的存在下，下式化合物同式R¹-COOH羧酸的反應衍生物進行反應

式中A¹，Q¹，m，Ra，Rb，Rc，Re和Rf定義如前，以及R¹也定義如前，和

4)如需要，把所得具有堿性取代基的式A化合物轉化成其藥物上可接受的酸加成鹽。