[其他]可彎曲的研磨件

無效

• 申請號: 88101108
• 申請日: 1988-02-27
• 公開（公告）號: CN88101108A
• 公開（公告）日: 1988-09-14
• 發明（設計）人: 馬爾·艾沙克;亞歷山大·施瓦茨
• 申請（專利權）人: 雙磨料國際有限公司
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02;C25D15/00;B24D18/00
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 李曉舒

本發明與可彎曲的研磨件有關，特別適用于對石頭或其它重負荷材料的研磨、磨削、精加工等加工過程。

1981年8月17日頒布的美國專利4256467（發明人為哥蘇希）公布了一種可彎曲的研磨件，該研磨件包含有載有若干鎳鍍層可彎曲的不導電的網，在鎳鍍層內諸如金鋼砂研磨材料就埋在其中。

根據上述美國專利，可彎曲研磨件的制造方法首先是把一片可彎曲不導電的網材料鋪到一光滑可導電體表面，并適當遮住只留下要電鍍的那些表面部分，這樣網材料與導電表面成固定關系，鎳就通過網孔電鍍在光滑表面的暴露部分，網材料中含有研磨材料，這樣研磨材料就埋在金屬層內而網便埋在鎳鍍層內，最后網從導電表面剝落下來，并被切成所需形狀。

然而這種方法有不少缺點，每次電鍍前柱體的準備工作即昂貴又復雜，加工過程慢而且都以一批次為基礎進行操作，因為一層具體尺寸可彎曲的網材料必須附到柱體上，在緊力作用下，使網和柱體保持固定關系。

更重要的是用哥蘇希方法生產的產品，在結構上不太牢固，只適合于輕載下使用，諸如磨鏡頭，如果產品用在較重載荷諸如研磨帶，那么網就需粘附在合適的基層上，不然，研磨所產生的熱很難提供一種滿意的粘附，由于研磨帶的損壞、鎳鍍層從內在不牢的網上脫落下來以及研磨帶的分層都會引起很多麻煩。

我們在加拿大的未決申請NO????518201（申請日為1986年9月15日）介紹了一種方法，該方法克服了有關導電柱體準備工作中出現的問題，而且允許此過程連續操作。在此方法中，遮罩直接加到導電網上，而不是加到導電面上，當使用網時，然而研磨件在重載使用中仍然粘附在結實的基層上。

本發明目的是提供一種生產可彎曲研磨件的方法，此方法比起上面提到的加拿大未決申請NO????518201所述方法，操作時既快又省，且易于使操作過程自動化。因此用此方法，本發明提供的研磨片基可以做成墊狀、圓盤或帶狀，產品能夠進行高速研磨并在金屬鍍層的分界面上提供一清潔表面，這就產生了一更有效的研磨，同時只需用更少金屬或研磨材料，使制造該產品變得更經濟有效，更有意義的是此方法可直接生產用于重載下的研磨片而毋須以后疊合到基層材料上，用本發明方法所生產的研磨件能有效地散熱，壽命也長。

根據本發明提供了一種制造研磨件的方法，該方法有在可彎曲片基的一面附有金屬膜，把眾多分立孔的防電鍍材料的遮罩加在金屬膜的暴露面上，電鍍金屬直接通過這些分立的孔鍍到含有顆粒狀研磨材料的金屬膜上，這樣所鍍金屬就直接粘附在金屬膜上，而研磨材料就埋入金屬鍍層內，鍍層最好采用電鍍方法，雖然也可使用無電極鍍覆，金屬膜最理想金屬是銅，鍍層的理想金屬是鎳，當然也能使用其它組合。

然而為減少使用中研磨件所產生的熱量，隨之就增加了它的效率和壽命，此方法所生產的耐磨件本身是有用的。在本發明的最佳實施例中，在把金屬電鍍在金屬膜的暴露面之后，遮罩從片基上剝下，分立的金屬鍍層之間的金屬膜加以腐蝕而暴露片基。

遮罩也能加到金屬膜上，通過涂上一層光聚合物，然而再曝光，在通過一開有孔的屏障的紫外線照射下，光聚合物就分解，于是涂層就被沖洗，最好用強堿來處理諸如氫氧化鈉，光聚合物可以是干的薄膜或稱為干膜，例如杜邦公司供應以里斯頓命名的光聚合物，或代拿希（Dynachem）公司供應的分層的光聚合物保護膜或海格力斯公司供應的光聚合物保護層，也可以由柯達，GAF、代拿希、杜邦或富士膠片公司供應的液態光聚合物保護層。光聚合物希望在紫外線下曝光，但是能分解光聚合物并可沖洗的其它形式輻射也是合適的。

本發明深入一步的內容是提供一種制造可彎曲研磨件的方法，該方法有在可彎曲基層可導電的金屬表面涂上一層光聚合物，然后，在通過一屏障上具有分立孔的紫外線下曝光來分解光聚合物，然后沖洗掉涂層，這樣就可充當有若干分立孔的遮罩，再直接通過上述的分立孔把電鍍金屬鍍到含有顆粒狀研磨材料的金屬表面，于是金屬直接粘附在上述金屬的表面而研磨體就埋在金屬鍍層內，像以前一樣，此方法希望在電鍍金屬之后，把遮罩從基片上剝下以暴露金屬面，然而再腐蝕掉電鍍金屬之間的金屬面來暴露基層。

另外，遮罩也可以用絲織屏障，在此情況下，遮罩是由擋紫外線的墨水制成，也可以是擋熱的諸如擋紅外線墨水制成，而這些防電鍍的保護膜或防腐蝕的抗蝕劑都可由馬克特米德公司（Mcdermid）公司、代拿希公司或M￥T化學公司供應。