[其他]S-槍磁控濺射源無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 87212023 | 申請(qǐng)日: | 1987-08-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN87212023U | 公開(kāi)(公告)日: | 1988-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王德苗;梁素珍;任高潮;徐電;陳抗生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34 |
| 代理公司: | 浙江大學(xué)專利代理事務(wù)所 | 代理人: | 連壽金 |
| 地址: | 浙江省杭*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁控濺射 | ||
1、一種含有一個(gè)磁場(chǎng)源、一個(gè)陰極靶、一個(gè)靶的水冷器、一個(gè)中心陽(yáng)極以及一個(gè)屏蔽罩等構(gòu)成的S-槍磁控濺射源,其特征在于該濺射源包含一個(gè)采用導(dǎo)磁材料制成的中心陽(yáng)極,一個(gè)等厚度的陰極靶[4],一個(gè)能使陰極靶[4]底部、側(cè)面和上極靴[9]同時(shí)得到有效冷卻的水冷器,一個(gè)使陰極靶[4]靶面始終保持潔凈工作氣氛的充氣器。
2、按照權(quán)利要求1所述的磁控濺射源,其特征在于所述的中心陽(yáng)極包含一個(gè)開(kāi)有若干個(gè)斜向孔和一個(gè)軸向通孔的陽(yáng)極頭〔1〕,一個(gè)上端設(shè)有水冷槽、軸心開(kāi)有一個(gè)上部設(shè)有內(nèi)螺紋,下部設(shè)有輻向孔的通孔的陽(yáng)極體〔3〕,以及一個(gè)在螺紋處開(kāi)有兩個(gè)豎向凹槽、連接陽(yáng)極頭〔1〕和陽(yáng)極體〔3〕的螺釘〔2〕。
3、按照權(quán)利要求1和2所述的磁控濺射源,其特征在于所述的充氣器其工作氣體自進(jìn)氣管〔5〕引入陽(yáng)極體〔3〕的中心通孔內(nèi),其一部份通過(guò)螺釘〔2〕的凹槽和陽(yáng)極頭〔1〕的斜向孔噴出,另一部份通過(guò)陽(yáng)極體〔3〕下部若干個(gè)輻向孔后,分別由中心陽(yáng)極外側(cè)間隙和屏蔽罩〔6〕內(nèi)側(cè)間隙從陰極靶〔4〕內(nèi)側(cè)和四周?chē)娤虬忻妗?/p>
4、按照權(quán)利要求1所述的磁控濺射源,其特征在于所述的水冷器其冷卻水通過(guò)銅質(zhì)的進(jìn)水管〔7〕進(jìn)入由一個(gè)銅質(zhì)的外膽〔8〕、上極靴〔9〕、一個(gè)同陰極靶〔4〕的外側(cè)和底部相接觸的銅質(zhì)的內(nèi)膽〔10〕構(gòu)成的水冷套,自銅質(zhì)的出水管〔11〕引出。
5、按照權(quán)利要求1所述的磁控濺射源,其特征在于所述的磁場(chǎng)源含有一個(gè)為使磁力線充分飽和泄漏而將其內(nèi)側(cè)處厚度減薄的上極靴〔9〕。
6、按照權(quán)利要求1所述的磁控濺射源,其特征在于當(dāng)移去陽(yáng)極頭〔1〕和螺釘〔2〕時(shí),可放置一個(gè)沒(méi)有內(nèi)孔的等厚的圓形陰極靶〔4′〕。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





