[其他]薄膜厚度測(cè)量裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 87207427 | 申請(qǐng)日: | 1987-07-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN87207427U | 公開(公告)日: | 1988-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李焯;楊進(jìn)城;鐘茂聲;呂文選 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01B15/02 | 分類號(hào): | G01B15/02 |
| 代理公司: | 廈門大學(xué)專利事務(wù)所 | 代理人: | 馬應(yīng)森 |
| 地址: | 福建省廈*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 厚度 測(cè)量 裝置 | ||
本實(shí)用新型屬于微波測(cè)厚技術(shù)。
1973年特爾湯(B.L.Dalton,J.Microwavepower??Vol??8,1973.235)用兩個(gè)一端開放的園柱型TEo11模高Q腔體作為傳感器,被測(cè)金屬板位于兩個(gè)腔體的共有端面。金屬板的厚度d與諧振頻偏有如下關(guān)系:
d=Xo-△f/α????????(1)
式中Xo為兩腔體的間距,α為常數(shù),△f為兩腔體諧振頻偏和,即相對(duì)開放端密封時(shí)的頻偏。其測(cè)量精度為2.5μm。但該方法是利用電磁波在金屬面的全反射,不適于介質(zhì)薄膜的厚度測(cè)量。
介質(zhì)微擾腔體方法較早是用于濕度的測(cè)量。
本實(shí)用新型的目的是對(duì)微波腔體微擾法的改進(jìn),并應(yīng)用于介質(zhì)薄膜的厚度測(cè)量。
利用微波腔體微擾法測(cè)量薄膜厚度的裝置一般包括傳感器、微波源、檢測(cè)電路、脈沖形成電路、顯示電路和電源等,其中傳感器是裝置的關(guān)鍵。本實(shí)用新型采用雙腔單膜高Q????TEo11模園柱型腔體作為傳感器,雙腔為工作腔和參考腔。被測(cè)薄膜插入工作腔,例如將工作腔沿縱向中央開橫向隙縫,被測(cè)薄膜穿透插入腔體。為實(shí)現(xiàn)自動(dòng)、連續(xù)測(cè)量,設(shè)有與工作腔相同模式的腔體作為參考腔。
微波壓控振蕩器通過(guò)T型等功率分配器和隔離器與工作腔和參考腔連接,當(dāng)工作腔受介質(zhì)微擾產(chǎn)生正比于厚度d的諧振頻偏時(shí),其諧振峰與參考腔諧振峰比較后,就將厚度d轉(zhuǎn)換為諧振時(shí)間差。兩諧振曲線經(jīng)峰值檢測(cè)電路、脈沖形成電路、雙穩(wěn)態(tài)電路后輸出其寬度與厚度d成正比的脈沖,再經(jīng)線性積分后,輸出電壓即與厚度d成正比。
被測(cè)薄膜穿透插入腔體時(shí),在符合微擾的條件下,腔體諧振頻率偏移為:
△f=-(εr-1)d/l (2)
式中d為被測(cè)薄膜厚度,εr為相對(duì)介電常數(shù),l為腔體長(zhǎng)度。當(dāng)εr、l一定時(shí),△f與d成正比,由此可推導(dǎo)得厚度的分辨率為
δd=- (l)/(2Qu(εr-1)) · (δf)/(△fo) (3)
式中Qu為諧振腔有載Q值,△fo為諧振曲線的半功率帶寬,δf為厚度δd所對(duì)應(yīng)的腔體諧振頻偏。若工作頻率取為9300MHz,Qu=3000,諧振峰點(diǎn)監(jiān)測(cè)精度為0.02,則可估算得δd=1.3μm,即高Q腔微擾法可獲得較高的分辨率。式(3)表明,提高工作頻率,減少l,可提高分辨率。然而,工作頻率再提高,Qu值下降,開槽隙縫也相應(yīng)減小,使被測(cè)薄膜不能順利通過(guò)。因此,沒有必要再提高工作頻率。
為了提高傳感器的溫度自補(bǔ)償作用,工作腔5由兩個(gè)半腔組成,如圖1所示,其中一半5A與參考腔6直接連結(jié)在一起,可用同一園的材料加工而成,另一半5B通過(guò)良導(dǎo)熱體例如“︺”形黃銅連接塊18與參考腔連結(jié)在一起,使兩腔體的溫度基本相同,達(dá)到溫度的自補(bǔ)償作用。
本實(shí)用新型選用線性好、功耗小的場(chǎng)效應(yīng)壓控振蕩器作為微波振蕩源,利用掃頻技術(shù)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)測(cè)量,壓控振蕩器的線性對(duì)儀器的精度及溫度的穩(wěn)定性是極為重要的。常用的鐵氧體YIG單晶電調(diào)諧振蕩器雖然掃頻線性很好,但需磁場(chǎng)部件及供電,而體效應(yīng)壓控振蕩器的功耗大,掃頻線性差。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,由于將參考腔和工作腔結(jié)合在一起,兩高Q腔體均工作于TEo11模式,掃頻微波源選擇線性好、功耗小的場(chǎng)效應(yīng)壓控振蕩器,使得兩腔體的熱漂移一致性好,具有良好的溫度自補(bǔ)償作用和線性指示,零漂小,耗散功率小,體積小。被測(cè)薄膜通過(guò)園柱型高QTEo11腔體中的電場(chǎng)波腹處,因而大大提高了測(cè)量分辨率及精度,通常整機(jī)分辨率可達(dá)0.2μm,精度≤±0.5μm。適用于一般的介質(zhì)薄膜,磁帶介質(zhì)薄膜、塑料薄膜,介質(zhì)上的無(wú)水涂層等的厚度及厚度均勻性測(cè)量。可以在線連續(xù)測(cè)量和質(zhì)檢兼容,無(wú)接觸測(cè)量,快速顯示,及時(shí)指導(dǎo)現(xiàn)場(chǎng)生產(chǎn),減少原材料損耗,提高成品率。
附圖給出本實(shí)用新型的實(shí)施例。
圖1為傳感器結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為薄膜厚度測(cè)量裝置方框圖。
其中1……壓控振蕩器,2……T型等功率分配器,3、4……隔離器,5(5A,5B)、6……工作腔、參考腔,7、8……晶體檢波器,9、10……放大器,11,12……脈沖形成電路,13……雙脈沖形成電路,14????R-S觸發(fā)器,15……積分濾波器,16……數(shù)字電壓面板表,17……被測(cè)薄膜,18……連接塊。
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