[其他]高均勻膜層鍍膜裝置

無效

• 申請號: 86205339
• 申請日: 1986-07-08
• 公開（公告）號: CN86205339U
• 公開（公告）日: 1987-12-09
• 發明（設計）人: 周時培
• 申請（專利權）人: 周時培
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1、用于基片涂膜，特別是在基片上涂高均勻膜層的鍍膜裝置，它的蒸發源(15或19)平行并置于被動輪(32)下方，在被動輪(32)上方(或下方)裝有一個摩擦軌道(28或28a)，工件夾具(35)上裝有一個摩擦輪(40)，摩擦輪(40)在摩擦軌道(28或28a)上滾動，其特征在于：

(1)摩擦軌道(28或28a)至少由一對不具軸對稱的面對稱曲面構成，工件夾具(35)距蒸發源(15或19)最近的擺動極值角大于距蒸發源(15或19)最遠的擺動極值角。

(2)或在蒸發源(15或19)正前方，摩擦軌道(28)，被動輪(32)和工件夾具(35)下方的鍍膜室底盤(8)上同時裝有一個可調可折可卸的空間遮擋片載臺裝置(48)。

2、根據權利要求1所述裝置，其特征在于：摩擦軌道（28或28a）的托盤（31或31a）上有三個供支柱（16）通過的同圓弧形孔。

3、根據權利要求1、2所述裝置，其特征在于：托盤（31或31a）上三個同圓弧形孔中的一孔側刻有角度數。

4、根據權利要求1所述裝置，其特征在于：空間遮擋片載臺裝置（48）的載臺（49）可通過可調物（50，51，52，53，56，58）使其兩端同時或分別升降。

5、根據權利要求1、4所述裝置，其特征在于：空間遮擋片載臺裝置（48）的載臺（49）兩端同時或分別升降的高度，可直接從刻數物（57，58）上的刻數讀出。

6、根據權利要求1所述裝置，其特征在于：空間遮擋片載臺裝置（48）的載臺（49）可通過可調物（58，60）使其對稱面圍繞被動輪（32）的幾何中心軸線（46）轉動。

7、根據權利要求1、6所述裝置，其特征在于：空間遮擋片載臺裝置（48）的載臺（49）對稱面圍繞被動輪（32）的幾何中心軸線（46）轉動的角度，可直接從刻數物（60）上的刻數讀出。