[其他]細胞熔合裝置無效
| 申請號: | 86108459 | 申請日: | 1986-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN86108459A | 公開(公告)日: | 1987-07-29 |
| 發明(設計)人: | 望月崇孝;戶田健三;古賀守;十川好志;高山慎一郎;今井克行 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | C12N15/00 | 分類號: | C12N15/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利代理部 | 代理人: | 李強 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 細胞 熔合 裝置 | ||
1、用于熔合細胞的裝置,包括:
包括一對電極的熔合室,該對電極互相分開預定距離以在其間確定放置細胞懸浮液的空間的相對表面,所述相對表面具有根據在所述細胞懸浮液中的細胞大小而確定的高度,以防止任何可能的不均勻電場對細胞熔合過程產生不利影響。
用于產生交流電壓的裝置;
用于產生直流電壓的裝置;
用于有選擇地把所述AC和DC電壓加到所述電極上的裝置。
2、權利要求1的裝置,其中所述電極是一對平行板電極。
3、權利要求1的裝置,其中所述電極包括具有第一半徑的內環形表面的外中空柱形電極,和具有小于所述第一半徑的第二半徑的外環形表面并與所述外電極同軸設置的內中空柱形電極,所述第一和第二個半徑之差相對所述半徑的全長足夠地小。
4、權利要求1的裝置,其中所述熔合室的底板在所述電極之間具有平整而光滑的表面。
5、權利要求1的裝置,其中所述熔合室的底板至少在所述電極之間是透明的。
6、權利要求1的裝置,其中所述熔合室設置有用于氣密地封閉所述熔合室的可取下頂蓋。
7、權利要求5的裝置,其中所述熔合室設置有用于氣密地封閉所述熔合室的可取下頂蓋,所述頂蓋用透光材料制成以用于照明。
8、權利要求6的裝置,其中所述熔合室安有用于容納所述電極對和其間的所述細胞懸浮液的腔和至少一個用于容納不同液體的附加的腔。
9、用于在細胞熔合裝置中使用的熔合室,包括:
在其底板上安有用于容納細胞懸浮液的腔的容器;
設置在所述腔中的一對電極,該對電極具有相對的表面,該表面的高度根據在所述細胞懸浮液中的細胞大小確定,以防止任何可能的不均勻電場對細胞的熔合過程起不利影響。
10、權利要求9的熔合室,其中所述電極是一對平行板電極。
11、權利要求9的熔合室,其中所述電極包括具有第一個半徑的內環形表面的外中空柱狀電極,和具有比所述第一個半徑小的第二個半徑的外環形表面并與所述外電極同軸的內中空柱狀電極,所述第一個和第二個半徑之差相對所述半徑的全長足夠地小。
12、權利要求9的熔合室,其中所述熔合室的底板在所述電極之間具有平整且光滑的表面。
13、權利要求9的熔合室,其中所述熔合室的底板至少在所述電極之間是透明的。
14、權利要求9的熔合室,進一步包括用于氣密地封閉所述容器的可取下的頂蓋。
15、權利要求13的熔合室,進一步包括用于氣密地封閉所述容器的可取下的頂蓋,所述頂蓋用透光材料制成以用于照明。
16、權利要求14的熔合室,其中所述容器的底壁上設置有至少一個用于容納不同液體的附加腔。
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