[其他]3,7-二取代-3-頭孢烯化合物及其生產(chǎn)工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 86105998 | 申請日: | 1986-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN86105998A | 公開(公告)日: | 1987-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高谷隆男;稻本美子 | 申請(專利權(quán))人: | 藤沢藥品工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | C07D501/36 | 分類號: | C07D501/36;C07D501/04 |
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 李雒英 |
| 地址: | 日本大阪市*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 取代 頭孢 化合物 及其 生產(chǎn)工藝 | ||
1、下式(I)的頭孢烯化合物或其鹽的制備工藝
其中R1為氨基或保護(hù)了的氨基,
R2為羧基或保護(hù)了的羧基,和
R3為氫或羥基-保護(hù)基;
此工藝包括:
i)將下式(Ⅱ)的化合物或其氨基的反應(yīng)活性衍生物或其鹽,和下式(Ⅲ)的化合物或其羧基的反應(yīng)活性衍生物或其鹽進(jìn)行反應(yīng)得到下式(I)的化合物或其鹽
其中R2的含意如上述:
其中R1和R3各自的含意如上述;
其中R1,R2和R3各自的含意如上述;
ii)將下式(Ia)的化合物或其鹽,進(jìn)行羧基保護(hù)基的消除反應(yīng),得到下式(Ib)化合物或其鹽;
其中R1和R3各自的含意如上述,和
R2a為保護(hù)了的羧基;
其中R1和R3各自的含意如上述;
iii)將下式(Ⅳ)的化合物或其鹽,和下式(Ⅴ)的化合物進(jìn)行反應(yīng),得到下式(I)的化合物或其鹽;
其中R2和R3各自的含意如上述,和
X為酸的殘基;
其中R1的含意如上述;
其中R1,R2和R3各自的含意如上述;
iⅤ)將下式(Ib)化合物或其鹽,進(jìn)行酯化反應(yīng),得到下式(Ic)化合物或其鹽;
其中R1和R3各自的含意如上述;
其中R1和R3各自的含意如上述,和
R2b為酯化了的羧基;
Ⅴ)將下式(Id)化合物或其鹽,進(jìn)行羥基-保護(hù)基的消除反應(yīng),得到下式(Ie)化合物或其鹽;
其中R1和R2各自的含意如上述,和
R3a為羥基-保護(hù)基;
其中R1和R2各自的含意如上述;
Ⅴi)將下式(If)的化合物或其鹽,進(jìn)行氨基保護(hù)基的消除反應(yīng),得到下式(Ig)的化合物或其鹽;
其中R2和R3的含意如上述,和
R1a為保護(hù)了的氨基;
其中R2和R3各自的含意如上述;和
Ⅴii)將下式(Ⅵ)的化合物或其鹽,和下式(Ⅸ)的化合物或其巰基的反應(yīng)活性衍生物進(jìn)行反應(yīng),得到下式(I)化合物或其鹽;
其中R1,R2和R3各自的含意如上述,和y為可被式
取代的基團(tuán);
其中R1,R2和R3各自的含意如上述。
2、下式(Ⅳ′)的化合物或其鹽的制備工藝,
其中R2為羧基或保護(hù)了的羧基,
A為亞甲基或式=N~OR3的基團(tuán),其中R3為氫或羥基-保護(hù)基,和
X為酸的殘基,
此工藝包括:
?。⑾率剑á颍┑幕衔锘蚱浒被姆磻?yīng)活性衍生物
或其鹽,和下式(Ⅶ)的化合物或其羧基的反應(yīng)活性衍生物或其鹽進(jìn)行反應(yīng)得到下式(Ⅷ)的化合物或其鹽;
其中R2的含意如上述;
其中A和X各自的含意如上述;
其中R2,A和X各自的含意如上述;和
ⅱ)將下式(Ⅳa)化合物或其鹽,與亞硝基化劑進(jìn)行反應(yīng),得到下式(Ⅳa)的化合物或其鹽。
其中R2和X各自的含意如上述;
其中R2和X各自的含意如上述。
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