[其他]制備銦-113m發生器的化學處理方法無效
| 申請號： | 86105863 | 申請日： | 1986-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN86105863B | 公開（公告）日： | 1988-07-27 |
| 發明（設計）人： | 李茂良;許懷忠;宋道海;王義如 | 申請（專利權）人： | 核工業部第一研究設計院 |
| 主分類號： | 分類號： | ||
| 代理公司： | 核工業部專利法律事務所 | 代理人： | 孟慶銓 |
| 地址： | 四川省成都*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制備 113 發生器 化學 處理 方法 | ||
【權利要求書】：
1、一種用輻照后的錫靶制備銦-113m發生器的化學處理方法，包括將輻照后的錫靶用酸溶解制成113SnCl4，使該溶液通過錫柱以除去放射性雜質，本發明的特征在于將113SnCl4與ZrOCl2混合，滴加濃氨水制成113SnO2-ZrO2混合膠體，抽吸過濾，烘干制成。
2、根據權利要求1所述的銦-113m發生器的化學處理方法，其特征在于烘干后形成的無定形顆粒直接裝入交換柱中。
3、根據權利要求1所述的銦-113m發生器的化學處理方法，其特征在于滴加濃氨水的量以溶液pH值為4最佳。
4、根據權利要求1所述的銦-113m發生器的化學處理方法，其特征在于113SnCl4與ZrOCl2混合用量按Sn/Zr原子量之比為2/3。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于核工業部第一研究設計院，未經核工業部第一研究設計院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/86105863/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種多頻率耳聲順圖和相移圖的同時測試方法和裝置
- 下一篇：輪胎沿口的鎖定裝置
- 同類專利
- 專利分類
