[其他]斜行光干涉儀伸縮計量方法及裝置無效
| 申請號: | 86104916 | 申請日: | 1986-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN86104916A | 公開(公告)日: | 1988-02-17 |
| 發明(設計)人: | 李志超;黃文浩 | 申請(專利權)人: | 中國科學技術大學 |
| 主分類號: | G01B15/08 | 分類號: | G01B15/08;G01B9/02 |
| 代理公司: | 中國科學院合肥專利事務所 | 代理人: | 趙烏蘭 |
| 地址: | 安徽省合肥市*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 斜行光 干涉儀 伸縮 計量 方法 裝置 | ||
本發明屬于長度計量技術領域。
用激光干涉法測量微小伸縮或位移,是長度計量的最精密的方法。在長度計量中最多使用的是邁克爾遜干涉儀。這種干涉儀一般以大尺度(米級量程)計量為目的,分辨能力約1/8波長(約80nm)。清華大學朱鶴年和張培林在《埃分辨率的激光系統及其在材料電致形變測量中的應用》(《中國激光》1983年第10卷第8.9期)一文中提出了小變量高靈敏度計量系統,該系統可達埃的測量分辯率。但是這種計量系統電路較復雜,而且需用昂貴的穩頻激光器。
也可用法布里·白洛干涉儀進行長度計量。歐洲專利EP-101-726-A提供的裝置,能測量微小位移,但因壓電陶瓷動程很小,僅靠干涉儀間距不變就不能進行大量程計量,同時測量中受干涉儀間隙中的物理變化的影響。而李志超等人把法布里·白洛干涉儀用于磁致伸縮計量,由于把光程差減小到0.1mm水平,減小了物理變化對測量的影響,并獲得3nm的分辨力(《金屬材料研究》1984年10月第40頁)。它的缺點是:當長度變化量值比半波長大時,從示波屏上圖形的移動來讀出數據是困難的,當變化進行較快時變為不可能。
本發明的目的在于提供一種斜行光干涉儀伸縮計量方法及裝置,它能擴大量程,方便讀數。
本發明的任務是以如下方式完成的:法布里·白洛干涉儀的一個鏡片,通過中心測桿與待測物接觸,隨待測物一起運動,另一鏡片粘在壓電陶瓷的自由端,壓電陶瓷在掃描電壓的作用下,帶動鏡片作掃描運動。采用二支或二支以上光束,至少有一支光通過法布里·白洛干涉儀時的行進方向與伸縮位移方向或干涉儀法線方向有夾角。該夾角的形成,可以是光束正入射,干涉儀斜放;可以是干涉儀正放,光束斜入射;以及干涉儀斜放,光束取任意方向。法布里·白洛干涉儀的光程差公式是:
△=2d·COSθ=kλ
式中△為透射光束之間的光程差,d為鏡間距離,θ為光束與鏡面法線的交角,λ為光波長,k為干涉級數。當k為整數時干涉光強為極大。在斜行光束上,干涉光極大值的間隔,對應的位移量不是δd=λ/2,而是大于λ/2的值:λ/2COSθ。因而在示波圖上,正入射光束和斜行光束的峰間距不同,它們的排列正如游標卡尺一樣,正入射光好象主尺,斜行光好象游標,根據它們與掃描電壓波形的相位關系,可以得到待測物的伸縮或位移變化量。
當待測量為△d時,在正入射光束(干涉儀正放)上對應干涉級數變化為△K0,在斜行光束上對應干涉級數變化為△K1,分別用右上角標i和d表示它們的整數和小數部分:
△K0=△KlO+△Kdo△K1=△Ki1+△Kd1
在|△Ki0-△Ki1|<1的范圍,對于一定的△Ki0有:
△Ki0=(△Kd0COSθ-△Kd1)/(1-COSθ)
式中分子的COSθ經常可當成1而忽略,通過此式可以僅由△Kd0和△Kd1算出△Ki0的數值,從而得到待測量值。在實際操作中,先測出干涉光極大值所對應的各壓電陶瓷上的電壓值,由壓電陶瓷的伸長量與電壓的函數關系決定其伸長量,再按上式算出△K0。如果|△Ki0-△Ki1|超過了1,可以用普通長度計量方法判斷△K0的區間,以決定其所超整數。當干涉儀斜放,入射光束的行進方與干涉儀的法線方向一致時,干涉儀間距d的變化比引起變化的伸縮位移值小一個因子COSθ,在讀數和計算△Ki0的數學關系上,與上述斜入射光的方法完全一樣。當二支光束,一支入射角為0,另一支入射角為適當的θ,同時進入一個干涉儀時,二支方向夾角不為0的光束,在示波圖上的峰間距不同,根據它們與掃描電壓波形間的相位關系,可以得到待測物的伸縮或位移變化量。
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