[其他]用于電解的陰極及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 86104356 | 申請(qǐng)日： | 1986-06-24 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN86104356A | 公開（公告）日： | 1986-12-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 弗郎西斯·勒魯;多米尼克·拉維埃 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 阿托化學(xué)公司 |
| 主分類號(hào)： | C25B11/10 | 分類號(hào)： | C25B11/10;C25B11/08;C23C20/02 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理有限公司 | 代理人： | 羅才希 |
| 地址： | 法國(guó)普托*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 電解 陰極 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種能用于電解法的新陰極。同時(shí)涉及這種陰極的制備方法。更具體地說是涉及一種能用于電解堿金屬鹵化物水溶液的陰極，由于它的低工作電位，和電化學(xué)特性隨時(shí)間的穩(wěn)定性，使之特別引人注目。
這種陰極是屬于活化的金屬陰極類別，它是由在陰極基片涂上各種活化材料得到的，其目的實(shí)質(zhì)上是為了降低在堿性介質(zhì)中氫超電勢(shì)。
英國(guó)專利1，511，719描述了一種陰極，它包括一個(gè)金屬基片、一個(gè)鈷的涂層和一個(gè)釕的第二涂層。
美國(guó)專利4，100，049描述了一種陰極，它包括一個(gè)基片，和一個(gè)由貴金屬氧化物和半導(dǎo)體金屬氧化物（尤其是鋯的氧化物）的混合物組成的涂層。
例如在美國(guó)專利3，216，919中描述了一種在鎳基片上涂敷一個(gè)由鎳-鈀合金組成的涂層的方法;根據(jù)此專利，把合金層以粉末狀加在基片上，然后對(duì)所述的合金粉末進(jìn)行燒結(jié)。
公布號(hào)為54-110，983（美國(guó)專利NO.4，465，580）的日本專利申請(qǐng)描述了一種帶有涂層的陰極，該涂層由鎳或鎳合金的顆粒分散體和活化劑組成，該活化劑則由鉑、釕、銥、銠、鈀或鋨，或這些金屬的氧化物組成。
公布號(hào)為53-010，036的日本專利申請(qǐng)描述了一種陰極，該陰極具有一個(gè)半導(dǎo)體金屬的基片和一個(gè)合金涂層，該合金涂層至少是由一個(gè)鉑族金屬和一個(gè)半導(dǎo)體金屬組成，如果合適，還有一個(gè)至少是一個(gè)鉑族金屬的表面涂層。
本發(fā)明提供了一種新的陰極，該陰極特別適用于堿金屬鹵化物的水溶液的電解，所說的陰極由帶有一個(gè)涂層的導(dǎo)電基片組成，該涂層是以一個(gè)鉑族金屬的氧化物為基礎(chǔ)的。這種陰極的特征在于，它帶有一個(gè)多層金屬氧化物組成的涂層，其表面層基本上由半導(dǎo)體金屬氧化物組成，中間層或至少是中間層之一基本上由元素周期表上第Ⅷ族中的一個(gè)貴金屬的氧化物組成。這里所用的“基本上”一詞，就表面和中間層而論，是指所述層只可由有關(guān)的金屬氧化物組成，或由有關(guān)的金屬與一個(gè)低比例（例如，按摩爾比率不超過1/10）的第二金屬的混合氧化物組成。
本發(fā)明中所說的半導(dǎo)體金屬是以通常大眾公認(rèn)的含義，也就是說，它是指元素周期表中除鉻以外的第4b、5b和6b族的金屬。
更具體地說，本發(fā)明提供的陰極包括一個(gè)導(dǎo)電的基片和一個(gè)涂層，所說的涂層由與一層或多層的鈦和/或鋯的氧化物相聯(lián)系的一層或多層氧化釕（RuO2）組成。本發(fā)明特別涉及其涂層含有RuO2和TiO2的陰極。
在這些陰極中特別描述的是這些陰極，它們的涂層包括，從導(dǎo)電基片數(shù)起，一層或多層的RuO2緊接著的一層或多層的TiO2，或是一系列的一層或多層TiO2/一層或多層RuO2/一層或多層TiO2。在這一系列涂層中插入其他貴金屬或非金屬氧化物層;或在導(dǎo)電基片和電介質(zhì)直接接觸的表面層之間，隨X增大的（RuxTi1-x）O2來取代一些或全部的RuO2和/或TiO2，這些都屬于本發(fā)明的范圍。作為本發(fā)明中的含義，準(zhǔn)確地說，表面層一詞指的是其表面直接與電解質(zhì)接觸的氧化物層，而中間層則是指位于導(dǎo)電基片和所說表面層之間的任何層。更詳細(xì)地說，本發(fā)明提供上述氧化物陰極的涂層中一些或全部呈薄片狀。
作為本發(fā)明中含義，薄片一詞指的是平面狀的薄膜，柱面的一部分或球面的一部分，或者是上述這些形狀的結(jié)合，它的厚度應(yīng)小于四邊形二邊長(zhǎng)的平均值的1/10，以這個(gè)四邊形來銘記所述薄片，對(duì)于所說邊長(zhǎng)的平均值其厚度在1和100微米之間是可能的，更確切地說，在3和30微米之間。
正如早已指出的，該涂層整個(gè)或部分地至少由一個(gè)貴金屬氧化物組成，這貴金屬是指釕、銠、鈀、鋨、銥和鉑。本發(fā)明中優(yōu)先選擇釕的氧化物或上述的氧化物與一個(gè)或多個(gè)其他貴金屬氧化物的組合。
按照本發(fā)明的陰極的涂層中，貴金屬氧化物與半導(dǎo)體金屬氧化物的摩爾比一般在10/1和1/10之間，最好在1/5和5/1之間。
可以導(dǎo)電材料中選擇基片材料。可以從由鎳、不銹鋼和低碳鋼組成的類屬中方便地選取，這里，這個(gè)說明并不表示有任何限制。
該基片可以是具有或不具有若干小孔或孔洞的板或薄片，格柵，金屬薄片，多孔金屬網(wǎng)或柵網(wǎng)。根據(jù)所采用的工藝技術(shù)，把上述材料做成平面，柱面或其他任何形狀是可能的。
本發(fā)明也涉及制備這些陰極的方法。
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