[其他]用于電解的陰極及其制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 86104356
• 申請日: 1986-06-24
• 公開（公告）號: CN86104356A
• 公開（公告）日: 1986-12-24
• 發(fā)明（設計）人: 弗郎西斯·勒魯;多米尼克·拉維埃
• 申請（專利權）人: 阿托化學公司
• 主分類號: C25B11/10
• 分類號: C25B11/10;C25B11/08;C23C20/02
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 羅才希

1、能用于電解池中的陰極，它由一帶有涂層的導電基片構成，該涂層是以鉑族金屬氧化物的基礎。這種陰極的特征在于：它帶有一個由多層金屬氧化物構成的涂層，其表面層基本上由半導體金屬氧化物組成，中間層或至少中間層之一基本上是由元素期表第Ⅷ族的一貴金屬氧化物組成。

2、根據(jù)權利要求1的陰極，其特征在于，表面層和/或一個中間層或多個中間層，僅僅由上述的金屬氧化物組成。

3、根據(jù)權利要求1的陰極，其特征在于，表面層和/或中間層或至少中間層之一是由上述金屬和小比例的第二金屬的混合氧化物組成。

4、根據(jù)權利要求1到3中任何一個的陰極，其特征在于，該涂層由一層或多層的氧化釕（RuO₂）與一層或多層的鈦和/或氧化鋯聯(lián)合在一起而組成。

5、根據(jù)權利要求1到4的任何一個的陰極，其特征在于，該涂層包括，從基片開始，一層或多層的RuO₂，然后是一層或多層的TiO₂和/或ZrO₂，或是一連串的一層或多層的TiO₂和/或ZrO₂/一層或多層的RuO₂/一層或多層的TiO₂和/或ZrO₂。

6、根據(jù)權利要求1到5的任何一個的陰極，其特征在于，涂層中的一些或全部氧化物呈薄片狀態(tài)。

7、根據(jù)權利要求1到6的任何一個的陰極，其特征在于，基片是從鎳、不銹鋼和低碳鋼類屬中選擇。

8、根據(jù)權利要求1到7的任何一個陰極的制造方法，其特征在于，在經(jīng)過合適予處理的基片上進行金屬鹽層的沉積，然后把整個片體進行生成氧化形式的熱處理。

9、根據(jù)權利要求8的制作方法，將金屬鹽的溶液層或懸浮液層逐步沉積到基片上。

10、根據(jù)權利要求3的陰極制造方法，其特征在于：混合氧化物是由這些金屬鹽類形成的，它是由上述鹽類的同樣溶液的一層或多層的形式沉積而成。

11、根據(jù)權利要求8到10任何一個的方法，其特征在于，這些金屬鹽是從這些金屬的無機或有機鹽中選擇出來的，例如，鹵化物、硝酸鹽、碳酸鹽、硫酸鹽或醋酸鹽或乙酰丙酮化物。

12、根據(jù)權利要求8到11的任何一個的方法，其特征在于，熱處理是在200℃和1000℃之間的一個溫度下進行的。

13、根據(jù)權利要求12的方法，其特征在于，在熱處理前進行烘干，意圖是從金屬鹽中部分或全部地除去溶劑和稀釋劑，所說的烘干溫度可達200℃。