[其他]層狀織物及其生產工藝無效
| 申請號: | 86100950 | 申請日: | 1986-02-04 |
| 公開(公告)號: | CN1005736B | 公開(公告)日: | 1989-11-08 |
| 發明(設計)人: | 赤木孝夫;坂本逸樹;山口新司 | 申請(專利權)人: | 可樂麗股份公司 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 盧新華;劉元金 |
| 地址: | 日本國岡山*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 層狀 織物 及其 生產工藝 | ||
1、一種顯示優良的防止分散染料色移和升華效果的層狀織物,該織物含有一種纖維織物,該纖維織物包含有不小于10%(重量)的分散染料著色的聚酯纖維,在該纖維織物的至少一面上有一層樹脂層,該樹脂層包含一種選自聚氨酯、丙烯酸聚合物、聚氯乙烯和合成橡膠的聚合物,在該樹脂層上形成的包含一種氟化物的衍生物或一種含硅化合物的聚合物薄膜層,該聚合物薄膜層的厚度為100-10000埃。
2、根據權利要求1的層狀織物,其中薄膜層中的聚合物單體是一種氟化物的衍生物,該薄層的氟化度α=F/C的范圍為0.2≤α≤1.8,氟化度α的定義是由X射線光電分光光度計測得的氟F1S峰面積求得的氟原子數除以用相同的方法求得的C1S原子數所得的商。
3、根據權利要求1的層狀織物,其中薄膜層中的聚合物單體是一種氟化物,該薄層的氟化度α=F/C的范圍為0.2≤α≤1.3,氧化度β=O/C的范圍為0.05≤α≤0.35,氧化度β的定義是由X射線光電分光光度計測得的氧O1S的峰面積求得的氧原子數除以用相同的方法求得的C1S原子數所得的商。
4、根據權利要求1的層狀織物,其中的聚合物薄膜層滿足下列條件:
10%<A<70%, 10%<B<35%,
10%<C<35%, 5%<D<30%,
0%<E<20%,
A、B、C、D和E是用如下方法求得的百分數,即把由薄的薄膜層的X-射線光電分光光度分析得到的碳C曲線圖分成幾個波形,每個波形以上圖中對應于一個峰值的鍵能為中心(波形分離法),上述波形的面積除以總C1S的面積,并用100乘以所得的值,A為峰在285電子伏特(eV)附近的波形的百分數,B為峰在287±0.5eV附近的波形的百分數,C為峰在289±0.5eV附近的波形的百分數,D為峰在291.6±0.5eV附近的波形的百分數和E為峰在293.8±0.5eV附近的波形的百分數。
5、權利要求1的層狀織物,其中的聚合物薄膜層滿足如下條件:(B+8)%>(C+3)%>D%>E%和B%>(E+6)%。
6、權利要求1的層狀織物,其中的聚合物薄膜層是含硅的化合物的衍生物。
7、生產防止分散染料色移和升華的效果優良的層狀織物的方法,該方法包括使含有不小于10%重量分散染料著色的聚酯纖維并通過樹脂涂漬處理至少在其一面有樹脂層的層狀織物,使用溶解參數(sup)值比所述分散染料的sup值至少小于0.5(卡/厘米3)1/2的單體化合物進行低溫等離子聚合處理,在所述層狀織物的樹脂層的表面形成一厚度為100-10,000埃的薄膜層。
8、權利要求7的方法:其中單體化合物是含氟的單體。
9、權利要求8的方法,其中含氯的單體選自C2F4,C3F6,C3F8,C4F8,C8F6O或C2H4F2。
10、權利要求7的方法,其中在進行低溫等離子聚合反應時使用一種混合氣體,該混合氣體由一種含氟單體和氫氣或一種含氟單體和一種不可聚合的氣體組成。
11、權利要求7的方法,其中單體化合物是含硅的單體。
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