[其他]錫反射爐連續(xù)熔煉工藝及裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 85106774
• 申請日: 1985-09-07
• 公開（公告）號: CN85106774A
• 公開（公告）日: 1987-06-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杜希年;陳廷訓(xùn);杜昌亞;邵灶林;楊道容;羅振乾;周洪武;王吉坤;戴逢文;袁維漢;黃位森;蔣紹風(fēng);寸守智;彭金常;王明非;潘耀宗;楊國政;趙良杰;段寅;毛月波;段之杰;代天德;劉學(xué)良
• 申請（專利權(quán)）人: 云南錫業(yè)公司
• 主分類號: C22B25/02
• 分類號: C22B25/02
• 代理公司: 云南省專利事務(wù)所
• 代理人: 吳繼梅,李峰普

1、錫反射爐還原熔煉工藝，其特征在于，經(jīng)配制好的爐料，通過倉式膠帶給料機(jī)，多批、少量、均勻加入爐內(nèi)兩側(cè)墻料床上，形成料坡。在高溫下進(jìn)行連續(xù)熔煉。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)熔煉工藝，其特征在于，熔煉過程的溫度穩(wěn)定在1350-1450℃。

3、根據(jù)權(quán)利要求1、2所述的連續(xù)熔煉工藝，其特征在于，熔池保持穩(wěn)定的渣層厚度。

4、根據(jù)權(quán)利要求1、2、3所述的連續(xù)熔煉工藝，其特征在于，熔煉產(chǎn)物粗錫和爐渣分別從虹吸口和渣口放出。

5、錫反射爐還原熔煉裝置，其特征在于，爐頂設(shè)置雙排料洞，熔池由熔煉區(qū)和沉淀區(qū)兩部份組成。

6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置。其特征在于，熔煉區(qū)熔池兩側(cè)墻筑有與爐底水平成30-40度向中心傾斜的料床。

7、根據(jù)權(quán)利要求5、6所述的裝置，其特征在于，爐底向沉淀區(qū)傾斜，其坡度為1-3%。

8、根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，沉淀區(qū)的面積占總爐床面積的10-18%。

9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，沉淀區(qū)較熔煉區(qū)深300～500毫米。

10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，在沉淀區(qū)一側(cè)墻至少設(shè)置一個溢流渣口。

11、根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，在沉淀區(qū)另一側(cè)墻上設(shè)置一虹吸口，爐墻外設(shè)置外虹吸池，兩者相互連通。