[其他]絕緣瓷套低溫自催化鍍鎳鍍銅工藝無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 85102168 | 申請(qǐng)日： | 1985-04-01 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN85102168B | 公開(kāi)（公告）日： | 1987-06-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 章兆蘭 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 陜西師范大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C23C18/16 | 分類(lèi)號(hào)： | C23C18/16;H01G13/00 |
| 代理公司： | 陜西師范大學(xué)專(zhuān)利代理事務(wù)所 | 代理人： | 樊鎖強(qiáng) |
| 地址： | 陜西省西*** | 國(guó)省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 絕緣 低溫 催化 鍍銅 工藝 | ||
1.電力電容器絕緣瓷套金屬化的方法，其特征在 于將預(yù)處理后的瓷套，用化學(xué)鍍的方法，先低溫自催 化鍍鎳，然后再低溫自催化鍍銅。
2.按照權(quán)利要求1所說(shuō)的方法，其預(yù)處理的步驟 為酸侵蝕、敏化、活化三部分，其特征在于酸蝕液是 由35ml/1HF和24g/1NH4F組成，操作條件是浸 泡3-5分鐘；敏化液是由10g/1SnCl2和 40ml?HCl(36-37％)組成，浸泡時(shí)間為1-3分鐘；活 化液是由2.2ml/1?HCl(36-37％)和0.22g /1PdCl2組成，浸泡時(shí)間為1-3分鐘。
3.按照權(quán)利要求1所說(shuō)的方法，其特征在于低溫 自催化鍍鎳的鍍液由甲、乙兩種溶液組成，其中：
使用時(shí)將甲、乙兩種溶液按體積1∶1混合即 成鎳鍍液。
4.按照權(quán)利要求3所說(shuō)的方法，其特征在于低溫 自催化鎳鍍液中的甲液和乙液以如下組成為最佳：
5.按照權(quán)利要求3或4所說(shuō)的方法，其特征在于 低溫自催化鍍鎳的施鍍條件為：在25-35℃， pH＝9-10條件下，施鍍50-60分鐘。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于陜西師范大學(xué)，未經(jīng)陜西師范大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/85102168/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過(guò)液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無(wú)電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無(wú)電流化學(xué)鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預(yù)處理
