[其他]控制處理液分布邊緣的方法和裝置

無效

• 申請號: 85102101
• 申請日: 1985-04-01
• 公開（公告）號: CN1004385B
• 公開（公告）日: 1989-05-31
• 發明（設計）人: 詹姆斯·J·利文斯通
• 申請（專利權）人: 拍立得公司
• 代理公司: 中國專利代理有限公司
• 代理人: 匡少波

公開了一種將處理材料加到照相底片上以便控制供給材料的方法和裝置。方法中包括了將處理材料加到照相底片上的步驟；和檢測底片上的參考面積的步驟。檢測步驟包括傳輸至少一束測試能到參考面積上和產生一個信號響應從面積上來的反射束的測試特性變化。該信號表示在面積上有或沒有材料。所加的加工材料的輸出隨產生的信號變化。以便使參考面積回到信號前的狀態。

背景技術

本發明一般地說是涉及控制處理液供應的方法和設備。實際上，本發明是涉及在靠攏的兩層膠片之間的處理液分布邊緣的控制方法和設備，剛好在膠片彼此疊在一起之前加以控制。

形形色色的自顯影照相方法大致包括在已曝光的照相底片上加一層粘性液體試劑。在該方法中，最典型的作法是，感光底片首先曝光，然后與第二層膠片疊合。兩層疊好的底片再在一對并列的加壓部件之間移動。加壓部件的建造和安裝的目的是將處理液從一團擴散成層近似于均勻的膜層，蓋在兩層底片中已曝光的部分。如此均勻擴散的處理液能夠導致可見圖象的形成。

在這種工藝中出現了一些與處理液分布有關的值得注意的問題。一個問題是要在底片的曝光面積上復蓋足夠數量的處理液。其明顯的原因是，要形成完美的圖像正確的洗印液數量及復蓋在曝光面積上的處理液涂敷均勻是關鍵。其次，把處理液限制在底片所需的側邊內也是重要的。另一方面，超出該邊緣而流下的處理液將會污染加壓輥和其他與感光底片的處理有關的設備。分布在其處的處理液的數量隨時都可能由于該處理液粘度變化而變化。因此，當要調節控制處理液的數量時。這些變化可能增加或減少分配量。既要避免使處理液側向邊緣溢出底片的側邊，又要為了得到完美的顯影而使處理液蓋滿曝光面，這就會出現一些值得重視的問題。當要處理大量的底片，同時底片的側邊與底片曝光面之間只有相當窄的間隙時。以上這些考慮就特別重要。

控制這種處理液的分布有許多方法。一種方法是在底片上裝一種有邊軌的設備。它使多余的處理液限制在側邊內。另一種方法是美國專利3，120，794號中公開的一種處理輥筒。它有一對軸向隔開的密封元件使涂敷的處理液限制在底片的側邊內。美國專利3，307，467號中公開一種偏置彈簧加壓元件，它防止當底片通過加壓元件隙縫時液體從底片側邊溢出。美國專利4，162，834號公開了一對側向隔開的噴咀元件，它們在縱向處理液槽的兩端吹入空氣流。美國專利2，563，343號公開了一種將處理液控制在底片側邊內的方法。在該方法中，提供了一種液體調整系統。在其中的一種樣式中有一對隔開的電接點，分別安裝在底片上存液空間的邊緣。這些觸點頂著疊在一起的兩層底片中的一層的邊緣。通常接點碰不著處理液。但當處理液過多而超過存液范圍時，就有可能使兩個開點接通。隨之在兩接點間出現電連接，使電磁線圈工作從而打通某一個開關。該開關負責一個閥門的工作，從而抑制處理液的分布。美國專利2，719789號公開了類似的方法。用它可以阻止液體超出處理底片的側邊。它所公開的內容是在薄膜底片上沿每一個側邊裝上一個接一個的導電條。導電條與被隔開的刷子配合而構成電控制電路的一部分。當處理液復蓋住兩個導電條時，電路動作，控制電磁線圈，接著，電磁線圈控制一個閥門，限制處理液流動。

然而，所說的這些控制方法中沒有一種裝置能簡單而方便地控制處理液使分布在照相底片側邊緊挨著的面積內，更不用說有一種控制方法能可靠地將處理液分布邊緣控制在底片預定范圍內。此處預定范圍的一個邊緊挨著底片的側邊，另一邊緊挨底片的曝光部分。

發明的概要

本發明提供了一種控制加到底片上的處理液的改造方法和設備。該方法包括提供處理材料給照相底片和檢測底片上參考面的步驟。在檢測步驟中至少有一束測試能量輸到參考面，并產生反映由參考面上來的反射能束的測試特性變化的信號。信號表明在面上有材料或沒有材料。本方法還包括根據產生的信號，改變加到底片上的處理材料的輸出量，使參考面回復到產生信號之前狀態的步驟。