[其他]控制處理液分布邊緣的方法和裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85102101 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN1004385B | 公開(公告)日: | 1989-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 詹姆斯·J·利文斯通 | 申請(專利權(quán))人: | 拍立得公司 |
| 主分類號: | 分類號: | ||
| 代理公司: | 中國專利代理有限公司 | 代理人: | 匡少波 |
| 地址: | 美國馬薩諸塞州02*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 控制 處理 分布 邊緣 方法 裝置 | ||
1、一種將處理材料加到照相底片上以便控制所加材料的方法,它包括以下具有特色的步驟:
把處理材料加到照相底片上;
檢測底片上的參考面,所說的檢測步驟包括至少將一束測試能發(fā)送給參考面并產(chǎn)生一個信號表示來自該參考面的能束的測試特性變化,該信號表示在參考面上有材料或沒有材料;和
根據(jù)所產(chǎn)生的信號使加到底片上的處理材料的輸出改變,以便使參考面回復(fù)到信號產(chǎn)生之前的狀態(tài)。
2、一種將處理材料分布到照相底片上以便控制流體分布邊緣使位于底片上預(yù)先選定的范圍的方法,底片上所選定的范圍的一邊緊挨著底片的一個側(cè)邊,另一邊緊挨著底片上已曝光的部分,其步驟包括:
將處理液分布到照相底片上,使流體邊緣能夠流到預(yù)定范圍;
檢測預(yù)定范圍中的參考面,所說的檢測步驟包括至少將一束測試能發(fā)射到參考面并交替產(chǎn)生第一和第二信號分別表征該面積上的能束被材料遮斷和不遮斷;和
根據(jù)所說的交替產(chǎn)生的第一和第二信號使分布在底片上的處理液輸出交替地減少和增加,以便使流體的邊緣保持在預(yù)定范圍內(nèi)。
3、權(quán)利要求2的方法中所說的檢測步驟包括發(fā)射一束不與照相底片產(chǎn)生反應(yīng)的能束。
4、權(quán)利要求3的方法中所說的能束是不與照相底片起光化作用的紅外線。
5、一種將處理材料加到照相底片上以便控制所加材料輸出的裝置,它包括:
將處理材料供給照相底片材料的設(shè)備;
檢測底片上參考面的檢測設(shè)備,所說的檢測設(shè)備包括將至少一束測試能發(fā)射到參考面上并產(chǎn)生一種響應(yīng)從該面上反射回來的測試能束特性變化的信號,信號變化代表在該面積上有材料或沒有材料;和
根據(jù)所說的信號使加到底片上的處理液輸出變化,從而使參考面回到所說的變化發(fā)生之前的狀態(tài)的設(shè)備,正是這種流體引起的變化引起反射能測試特性的變化。
6、權(quán)利要求5的裝置中所說的發(fā)射能的設(shè)備所發(fā)射的能束與照相底片不起光化作用。
7、權(quán)利要求6的裝置中所說的將能束發(fā)射給參考面和產(chǎn)生一種代表從該面積來的反射能變化的信號的設(shè)備是一種光學(xué)檢測裝置,所說的光學(xué)檢測設(shè)備發(fā)射一束不與照相底片起光化作用的一束射線,同時,該檢測設(shè)備檢測射線束的反射部分,因而,當所說的反射束被流體遮斷時,反射束的測試特性發(fā)生變化。
8、權(quán)利要求5的裝置中所說的響應(yīng)設(shè)備包括改變流體輸出的泵和與泵相連的控制裝置,它根據(jù)所說的信號改變輸出。
9、將流體分布到照相底片上,以便控制流體邊緣分布在底片上的預(yù)定范圍內(nèi)的裝置,該預(yù)定范圍的一個邊緊挨著底片的側(cè)邊,另一個邊緊挨著底片已曝光的部分,裝置包括:
將處理液分布到照相底片上以便使流體的邊緣達到預(yù)定范圍的設(shè)備,
檢測預(yù)定范圍中參考面的檢測設(shè)備,所說檢測設(shè)備包括將至少一束測試能發(fā)射到參考面并交替產(chǎn)生第一和第二信號分別表征該面積中的發(fā)射能束被流體遮斷和不遮斷的設(shè)備;和
分別根據(jù)所說的第一和第二信號使分布在底片上的處理液交替地增加和減少,以便使流體的邊緣落在預(yù)定范圍內(nèi)的設(shè)備。
10、一種把流體涂敷在移動的感光材料條帶上給定的寬度內(nèi)的方法,但在所說的移動條帶的側(cè)邊上不得有所說的流體,該方法包括以下的步驟:
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