[其他]大同視場下的物像比對儀制造法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 85100846 | 申請日: | 1985-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN85100846A | 公開(公告)日: | 1986-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙長安;張玉潔;蘇爾古冷 | 申請(專利權(quán))人: | 內(nèi)蒙古自治區(qū)刑事科學研究所 |
| 主分類號: | G01B9/08 | 分類號: | G01B9/08 |
| 代理公司: | 內(nèi)蒙專利服務(wù)中心 | 代理人: | 李樹基 |
| 地址: | 內(nèi)蒙古自治*** | 國省代碼: | 內(nèi)蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 大同 視場 物像 制造 | ||
本發(fā)明是一種簡單光學儀器的制造法,旨在實現(xiàn)大視場下的同一視場中進行實物與實物或?qū)嵨锱c物相、實物與物跡等的比對檢驗,達到既能定性又能定量地鑒別同異、真?zhèn)沃康模液啽恪蚀_、迅速。
本發(fā)明所謂的大、同視場是指大于兩人眼中心距離以上的同一視場范圍。
本發(fā)明是針對目前的刑事技術(shù)檢驗工作,在足跡的檢驗、指紋的檢驗、文物珍品、票證印鑒等的檢驗上,所用手段、設(shè)備存在不齊、不便、不準等缺點,利用平面鏡和析光鏡的幾何光學特性,在作簡單組合匹配后即可用作比對研制而成。
目前國內(nèi)制造或引進的各種用作比對的設(shè)備及儀器,沒有利用平面鏡和析光鏡組,且多是結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成本昂貴、視場狹小和范圍有限,檢驗工作具有一定的局限性,并檢驗人員因受檢驗條件的限制,常感體力不濟,效率不高,強度較大,周期沉長,檢驗質(zhì)量和準確性也由于主觀和客觀上的許多問題往往難以保證,特別是對于某些殘缺、破損、零碎的物、相或痕跡,要想做到和原物件的準確比對,更感困難很多。本發(fā)明基于上述考慮,利用了取鏡容易用量最少的一個普通平面鏡和析光鏡,以一定距離平行組合,構(gòu)成一個有反射有透射的聯(lián)合物像比較系統(tǒng),配以標尺、刻度和照明、調(diào)節(jié)等裝置,可以實現(xiàn)在大視場下的同一視場中,對要比對的兩個物或物與相、物與痕跡,作比較、接合、重疊和整體、局部的比對測量,既能定性又能定量,提高了比對質(zhì)量和準確性,同時減輕了工作人員的勞動強度,提高了工作效率。
本發(fā)明實現(xiàn)物像在同一視場下的比較。接合、重疊等比對的光路系統(tǒng)原理如圖所示。圖中P1為平面鏡,P2為析光鏡,兩鏡平行放置,并與假想基準鉛垂面MM′單側(cè)接交,且夾角均為45°。A、B代表兩個比對實物,分別與所對鏡平面成45°角作反射和透射。平面鏡P1將實物A的反射光線均勻反射到析光鏡P1上后,析光鏡P2又對實物A的虛像A′作二次反射,其光路為aa1a2a3。A″為實物A的二次虛像,其大小、方位和實物A完成相同。若將實物B放到虛像A″的位置附近,由于實物B的反射光線在透過析光鏡后是沿直線b2b3且和實物A的二次反射光線a2a3平行并進,因而調(diào)節(jié)實物B和虛像A″的相對位置,可以實現(xiàn)對透過析光鏡P2的實物B的實像與經(jīng)析光鏡P2反射的實物A的二次虛像A″進行同位置并立比較、特征重疊、線條接合等比對檢驗。
本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特點是平面鏡、析光鏡制造容易、用量最少、組合簡單、視場擴大,可做到在大視場下的同大比對觀察。
本發(fā)明所述平面鏡為真空鍍金屬膜(銀、鉻等)、膜層氧化的外反射平面玻璃鏡,也可用普通水銀平面鏡或其它金屬拋光型平面鏡。為提高反射精度,要求鍍膜均勻,反射面光滑平整,反射物相不變形。其鏡面規(guī)格視需要而定,如用于足跡比對,則線徑應(yīng)不小于最大人鞋底的尺度,形狀可為方形、園形或長方形。
本發(fā)明所述析光鏡,應(yīng)具有半反射半透射光線的特性,反射透射光之比最好為1∶1。反射由平板玻璃單側(cè)鍍金屬薄膜來實現(xiàn),透射由薄膜層稀、薄,不使鏡對方的物、相反射光全遮擋來實現(xiàn)。除上平板玻璃型析光鏡外,也可采用能達同樣析光效果的其它類析光鏡,規(guī)格大小應(yīng)與反射鏡匹配。為了提高析光精度,要求析光鏡兩面平整,鏡質(zhì)均勻,越薄越好。
本發(fā)明所述的光路系統(tǒng),其兩鏡面平行組合誤差,按正常人的視覺鑒別率為60″(在明視距離為250mm,光線充足條件下可區(qū)別0.08mm距離的兩點)為標準進行推算,在被鑒別物的最大長度(如腳印)可達270mm時,兩鏡的不平行度應(yīng)不大于45′。
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