[實用新型]用于物理氣相沉積設備的舉升機構

有效

• 申請號: 202320869139.4
• 申請日: 2023-04-18
• 公開（公告）號: CN219315064U
• 公開（公告）日: 2023-07-07
• 發明（設計）人: 王杰;張沛;車德民
• 申請（專利權）人: 紹興中芯集成電路制造股份有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 蘇州錦尚知識產權代理事務所(普通合伙) 32502
• 代理人: 朱磊;李洋

本實用新型涉及一種用于物理氣相沉積設備的舉升機構。包括:工件載具，被配置為裝載工件，在第一位置和第二位置之間運動，包括承載工件的承托面和與承托面相背的固定面；導柱，固定于工件載具的固定面，能運動，以帶動工件載具在第一位置和第二位置之間運動；位置校準機構，驅動導柱運動，使工件載具運動至第三位置，并對工件載具的位置進行校準；第一位置、第二位置和第三位置沿遠離工件載具的方向順序分布，且第三位置和第二位置之間的距離大于第一位置和第二位置之間的距離；位置校準機構還包括：防撞組件，用于防止工件載具撞擊物理氣相沉積設備的機臺。本實用新型能夠在自動傳輸中，具備準確的傳輸位置。

技術領域

本實用新型涉及沉積設備領域，特別是涉及一種用于物理氣相沉積設備的舉升機構。

背景技術

物理氣相沉積(Physical?Vapor?Deposition，PVD)技術是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。物理氣相沉積是主要的表面處理技術之一，也是半導體工業中應用廣泛的沉積材料的技術。因此，在半導體工業中，物理氣相沉積設備是重要的工業設備。

現有的物理氣相沉積設備，自動化程度比較高。例如對于大規格、工業化規格的基片，一般采用X/Y軸自動傳輸、非接觸式上、下片。X/Y軸自動傳輸包括工件載具，工件載具可以在X/Y軸方向運動。但是采用自動傳輸的方式上、下片，對位置的要求非常嚴格。而X/Y軸自動傳輸的過程中，在多次運動后，位置容易出現偏差。在傳輸物料中，容易因為位置偏差導致物料損傷。

實用新型內容

有鑒于此，本申請實施例為解決背景技術中存在的至少一個問題而提供一種用于物理氣相沉積設備的舉升機構。

為達到上述目的，本申請的技術方案是這樣實現的：

本申請實施例提供了一種用于物理氣相沉積設備的舉升機構，包括：

工件載具，被配置為裝載工件，在第一位置和第二位置之間運動，包括承載工件的承托面和與承托面相背的固定面；

導柱，固定于所述工件載具的固定面，能運動，以帶動所述工件載具在第一位置和第二位置之間運動；

位置校準機構，驅動所述導柱運動，使所述工件載具運動至第三位置，并對所述工件載具的位置進行校準；所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置沿遠離所述工件載具的方向順序分布，且所述第三位置和所述第二位置之間的距離大于所述第一位置和所述第二位置之間的距離；

所述位置校準機構還包括：防撞組件，用于防止所述工件載具撞擊物理氣相沉積設備的機臺。

可選地，所述防撞組件包括：

感應標記物，安裝于所述導柱遠離所述工件載具的一端；

位置傳感器，用于感應所述感應標記物，以獲取所述工件載具的位置。

可選地，所述感應標記物為與所述導柱的圓弧面適配的弧形片。

可選地，所述感應標記物在所述導柱上的位置可沿所述導柱的縱向調節，所述導柱開設有沿軸向延伸的安裝槽。

可選地，所述感應標記物通過緊定螺釘頂住所述安裝槽的方式固定在所述導柱上。

可選地，所述位置傳感器為光學傳感器，所述感應標記物設置有與所述光學傳感器匹配的感光元件。

可選地，所述位置傳感器為霍爾傳感器，所述感應標記物設置有與所述霍爾傳感器匹配的鐵磁性材料。

可選地，所述導柱遠離所述工件載具的一端為懸臂設置的懸臂端；所述舉升機構還包括：

阻尼零件，設置在所述懸臂端的端面；