[實(shí)用新型]用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202320869139.4 | 申請(qǐng)日: | 2023-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN219315064U | 公開(公告)日: | 2023-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王杰;張沛;車德民 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 紹興中芯集成電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/50 | 分類號(hào): | C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司: | 蘇州錦尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32502 | 代理人: | 朱磊;李洋 |
| 地址: | 312035 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 物理 沉積 設(shè)備 舉升機(jī) | ||
1.一種用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:
工件載具,被配置為裝載工件,在第一位置和第二位置之間運(yùn)動(dòng),包括承載工件的承托面和與承托面相背的固定面;
導(dǎo)柱,固定于所述工件載具的固定面,能運(yùn)動(dòng),以帶動(dòng)所述工件載具在第一位置和第二位置之間運(yùn)動(dòng);
位置校準(zhǔn)機(jī)構(gòu),驅(qū)動(dòng)所述導(dǎo)柱運(yùn)動(dòng),使所述工件載具運(yùn)動(dòng)至第三位置,并對(duì)所述工件載具的位置進(jìn)行校準(zhǔn);所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置沿遠(yuǎn)離所述工件載具的方向順序分布,且所述第三位置和所述第二位置之間的距離大于所述第一位置和所述第二位置之間的距離;
所述位置校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)還包括:防撞組件,用于防止所述工件載具撞擊物理氣相沉積設(shè)備的機(jī)臺(tái)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述防撞組件包括:
感應(yīng)標(biāo)記物,安裝于所述導(dǎo)柱遠(yuǎn)離所述工件載具的一端;
位置傳感器,用于感應(yīng)所述感應(yīng)標(biāo)記物,以獲取所述工件載具的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述感應(yīng)標(biāo)記物為與所述導(dǎo)柱的圓弧面適配的弧形片。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述感應(yīng)標(biāo)記物在所述導(dǎo)柱上的位置可沿所述導(dǎo)柱的縱向調(diào)節(jié),所述導(dǎo)柱開設(shè)有沿軸向延伸的安裝槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述感應(yīng)標(biāo)記物通過緊定螺釘頂住所述安裝槽的方式固定在所述導(dǎo)柱上。
6.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述位置傳感器為光學(xué)傳感器,所述感應(yīng)標(biāo)記物設(shè)置有與所述光學(xué)傳感器匹配的感光元件。
7.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述位置傳感器為霍爾傳感器,所述感應(yīng)標(biāo)記物設(shè)置有與所述霍爾傳感器匹配的鐵磁性材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述導(dǎo)柱遠(yuǎn)離所述工件載具的一端為懸臂設(shè)置的懸臂端;所述舉升機(jī)構(gòu)還包括:
阻尼零件,設(shè)置在所述懸臂端的端面;
壓力傳感器,感應(yīng)所述阻尼零件受到的壓力值,并根據(jù)壓力值停止所述導(dǎo)柱的運(yùn)動(dòng),以阻止所述導(dǎo)柱發(fā)生撞擊。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述阻尼零件為壓縮彈簧。
10.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的用于物理氣相沉積設(shè)備的舉升機(jī)構(gòu),其特征在于,所述固定面和所述導(dǎo)柱上端面之間的距離可調(diào),以更好的校準(zhǔn)所述工件載具的位置。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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