[實用新型]承載裝置及晶圓檢測設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202320675420.4 | 申請日: | 2023-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN219575605U | 公開(公告)日: | 2023-08-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳思鄉(xiāng);雷傳;吳燦;杜振東;孟恒 | 申請(專利權(quán))人: | 長川科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/687;H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海港慧專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31402 | 代理人: | 楊鍇 |
| 地址: | 215124 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 承載 裝置 檢測 設(shè)備 | ||
本實用新型涉及一種承載裝置及晶圓檢測設(shè)備,承載裝置包括底座、載片臺及頂升機構(gòu)。將晶圓轉(zhuǎn)移至載片臺時,驅(qū)動組件先驅(qū)動多個頂桿伸出于承載面,再由搬運機器人將晶圓放置于頂桿的頂端,故晶圓將由多個頂桿共同支撐并保持與承載面平行。接著,多個頂桿在驅(qū)動組件的驅(qū)動下回縮至承載面的下方,將晶圓便轉(zhuǎn)移至承載面并由承載面吸附。待晶圓檢測完后,承載面切換至正壓,驅(qū)動組件再次驅(qū)動多個頂桿伸出于承載面以將晶圓頂起,從而方便搬運機器人將晶圓取走。在晶圓由多個頂桿支撐時,每個頂桿的頂端可通過形成負壓而吸附住晶圓。如此,在頂升機構(gòu)帶動晶圓升降的過程中晶圓在不易相對于頂桿滑動,從而提升晶圓接送的穩(wěn)定性。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及半導體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種承載裝置及晶圓檢測設(shè)備。
背景技術(shù)
在晶圓成型后,通常還需要采用AOI(自動光學檢測)技術(shù)對其線寬線高、膜厚及粗糙度等參數(shù)進行量測。晶圓經(jīng)過預(yù)對位后,可由搬運機器人將其轉(zhuǎn)移至承載裝置,并使晶圓最終在承載裝置上完成檢測。
承載裝置一般包括承載臺及頂升機構(gòu),頂升機構(gòu)能夠針對晶圓進行接料及送料。在將晶圓向承載裝置轉(zhuǎn)移時,頂升機構(gòu)處于頂升狀態(tài),搬運機器人先將晶圓送到載片臺上方,再將晶圓放置于頂升機構(gòu)并撤走;接著,頂升機構(gòu)帶動所承接的晶圓下降,直至將晶圓放置于載片臺。而將晶圓從承載裝置上取走時,動作過程則相反。
由于頂升機構(gòu)在升降過程中難免會出現(xiàn)多個頂桿高度不一的情況,進而導致多個頂桿的頂端所界定的支撐平面與水平面產(chǎn)生傾斜,而晶圓的表面一般較為光滑,因此,在頂升機構(gòu)升降以對晶圓進行接送的過程中,晶圓容易相對于頂升機構(gòu)滑動,從而導致晶圓的位置發(fā)生偏移。
實用新型內(nèi)容
基于此,有必要針對上述問題,提供一種能夠提升晶圓接送穩(wěn)定性的承載裝置及晶圓檢測設(shè)備。
一種承載裝置,包括:
底座;
載片臺,安裝于所述底座,所述載片臺具有用于承載晶圓的承載面,且所述承載面開設(shè)有多個沿軸向貫穿所述載片臺的避位孔,所述承載裝置能夠在所述承載面上形成正壓或負壓;及
頂升機構(gòu),包括驅(qū)動組件及分別穿設(shè)于多個所述避位孔內(nèi)的頂桿,所述驅(qū)動組件與多個所述頂桿傳動連接,并能夠驅(qū)動多個所述頂桿沿所述避位孔升降,以使多個所述頂桿伸出于所述承載面或回縮至所述承載面的下方;
其中,多個所述頂桿的頂端共同限定一平行于所述承載面的支撐平面,且所述頂桿的頂端能夠形成負壓。
在其中一個實施例中,所述載片臺與所述底座之間圍設(shè)成容置空間,所述驅(qū)動組件設(shè)置于所述容置空間內(nèi)。
在其中一個實施例中,所述承載面上開設(shè)有吸附槽,所述吸附槽的底部開設(shè)有氣孔,所述載片臺的內(nèi)部形成有與所述氣孔連通的氣道,所述氣道能夠連通負壓氣源或正壓氣源。
在其中一個實施例中,所述吸附槽包括多個同心設(shè)置的環(huán)形槽,且每個所述環(huán)形槽的底部均開設(shè)有所述氣孔。
在其中一個實施例中,所述氣道設(shè)置有多個,且多個所述氣道分別與多個不同半徑范圍內(nèi)的所述環(huán)形槽內(nèi)的所述氣孔連通。
在其中一個實施例中,每個所述頂桿的中部形成有延伸至頂端的通道,且每個所述頂桿的頂端設(shè)置有與所述通道連通的吸盤,所述通道能夠連通負壓氣源。
在其中一個實施例中,所述驅(qū)動組件包括:
動力件;
驅(qū)動塊,設(shè)置于所述動力件的驅(qū)動端,所述動力件能夠驅(qū)動所述驅(qū)動塊沿所述載片臺的徑向移動;
升降盤,沿所述頂桿的延伸方向可滑動地安裝于所述底座,多個所述頂桿安裝于所述升降盤;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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