[發(fā)明專利]鈣鈦礦電池的制備方法及鈣鈦礦電池在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310595790.1 | 申請(qǐng)日: | 2023-05-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116669500A | 公開(公告)日: | 2023-08-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 請(qǐng)求不公布姓名 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 旗濱新能源發(fā)展(深圳)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H10K71/00 | 分類號(hào): | H10K71/00;H10K85/50;H10K30/40;H10K30/50 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 龔健 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)桃源街道桃源*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鈣鈦礦 電池 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種鈣鈦礦電池的制備方法及鈣鈦礦電池,屬于薄膜光伏電池領(lǐng)域。本發(fā)明在導(dǎo)電基底的表面自下而上依次制備第一傳輸層、過(guò)渡層和絕緣層,所述絕緣層部分穿過(guò)所述過(guò)渡層與所述第一傳輸層接觸;在絕緣層背離第一傳輸層的一側(cè)制備背電極層;除去過(guò)渡層,使絕緣層具有中空結(jié)構(gòu)并跟第一傳輸層直接接觸;對(duì)絕緣層進(jìn)行造孔,并填充鈣鈦礦溶液,形成鈣鈦礦活性層。通過(guò)制備過(guò)渡層使絕緣層形成具有支撐柱的中空結(jié)構(gòu),可填充更多的鈣鈦礦溶液,有利于促進(jìn)鈣鈦礦溶液結(jié)晶形成穩(wěn)定的鈣鈦礦活性層,加強(qiáng)電池對(duì)光能的吸收和利用,并增大鈣鈦礦活性層與第一傳輸層的直接接觸面積,提高載流子的傳輸效率,繼而提高鈣鈦礦電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜光伏電池領(lǐng)域,尤其涉及一種鈣鈦礦電池的制備方法及鈣鈦礦電池。
背景技術(shù)
鈣鈦礦電池通??梢苑譃榻橛^鈣鈦礦電池和平面鈣鈦礦電池,其結(jié)構(gòu)通常包含導(dǎo)電玻璃、致密層、介孔層、絕緣層、碳背電極,鈣鈦礦溶液分布在上述功能層之間形成鈣鈦礦活性層,由于各功能層之間緊密連接,且材質(zhì)粒徑及孔隙率等參數(shù)有所不同,容易導(dǎo)致鈣鈦礦溶液填充不足或者結(jié)晶不完整,造成一定的外觀缺陷,而且鈣鈦礦溶液分布在絕緣層中,絕緣層會(huì)阻擋鈣鈦礦活性層對(duì)光的吸收,影響電池的光電轉(zhuǎn)換效率。此外,現(xiàn)有介觀電池技術(shù)很難在背電極與鈣鈦礦活性層中間添加傳輸層,因此容易造成背電極與鈣鈦礦活性層存在能級(jí)差,一定程度上會(huì)影響到鈣鈦礦電池的電化學(xué)性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種鈣鈦礦電池的制備方法及鈣鈦礦電池,旨在解決鈣鈦礦電池中功能層之間緊密連接,鈣鈦礦溶液填充不足,結(jié)晶不完整,容易造成外觀缺陷,且絕緣層容易阻擋鈣鈦礦活性層對(duì)光的吸收,繼而影響鈣鈦礦電池電化學(xué)性能的技術(shù)問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種鈣鈦礦電池的制備方法,包括以下步驟:
在導(dǎo)電基底的表面自下而上依次制備第一傳輸層、過(guò)渡層和絕緣層,所述絕緣層部分穿過(guò)所述過(guò)渡層與所述第一傳輸層接觸;
在所述絕緣層背離所述第一傳輸層的一側(cè)制備背電極層;
除去所述過(guò)渡層;
對(duì)所述絕緣層進(jìn)行造孔,并填充鈣鈦礦溶液,形成鈣鈦礦活性層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述第一傳輸層為電子傳輸層或者空穴傳輸層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述第一傳輸層為電子傳輸層,對(duì)所述電子傳輸層進(jìn)行造孔,形成具有孔隙結(jié)構(gòu)的電子傳輸層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,在所述背電極層靠近所述導(dǎo)電基底的一側(cè)制備第二傳輸層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,所述第二傳輸層為電子傳輸層或者空穴傳輸層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,制備所述空穴傳輸層的材料包括PEDOT:PSS、CuSCN、CuI、CuxO、NiOx、V2O5其中的至少一種;
和/或,制備所述電子傳輸層的材料包括TiO2、SnO2、ZnO、MoO3中的至少一種。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,制備所述背電極層的材料包括碳材料、金屬氧化物及金屬材料中的至少一種。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,用碳材料制備所述背電極層形成碳層,對(duì)所述碳層進(jìn)行造孔形成具有孔隙結(jié)構(gòu)的碳層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,在所述背電極層背離所述導(dǎo)電基底的一側(cè)制備金屬輔助層。
在本申請(qǐng)的一些實(shí)施例中,制備所述金屬輔助層的材料包括Au、Ag、Cu、Al,Mn,Cr中的至少一種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于旗濱新能源發(fā)展(深圳)有限責(zé)任公司,未經(jīng)旗濱新能源發(fā)展(深圳)有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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