[發明專利]薄膜覆晶封裝結構電路卷帶激光清潔設備及清潔方法

在審

• 申請號: 202310426311.3
• 申請日: 2023-04-20
• 公開（公告）號: CN116422651A
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 陳緯銘
• 申請（專利權）人: 廈門通富微電子有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;B08B5/04;B08B13/00;B01D46/10
• 代理公司: 北京中知法苑知識產權代理有限公司 11226
• 代理人: 李明;趙吉陽

1.一種薄膜覆晶封裝結構電路卷帶激光清潔設備，其特征在于，所述清潔設備包括：

承載臺，用于承載待清潔電路卷帶；

激光發射源，可移動地設置于所述承載臺上方，所述激光發射源用于將激光束發射至所述待清潔電路卷帶表面的目標清潔區域，以將所述目標清潔區域的污染物清除；

保護罩，罩設于所述激光發射源，以在所述承載臺的上方形成保護腔室，所述保護罩用于防止所述激光發射源發射的所述激光束外溢；

集塵裝置，所述集塵裝置與所述保護腔室相連通，用于收集所述激光束將所述目標清潔區域的污染物進行清除時產生的揮發物和粉塵。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述集塵裝置包括真空吸塵件和過濾件；

所述真空吸塵件與所述保護腔室相連通，用于將所述揮發物和粉塵吸入所述集塵裝置；

所述過濾件與所述真空吸塵件連接，用于將吸入的所述揮發物和粉塵進行過濾。

3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述激光清潔設備還包括設置于所述承載臺的冷卻裝置；

所述冷卻裝置，用于驅走所述激光束對所述目標區域進行激光掃描清除污染物時產生的熱量。

4.根據權利要求3所述的設備，其特征在于，所述冷卻裝置包括氣冷管線或者水冷管線。

5.一種薄膜覆晶封裝結構電路卷帶激光清潔方法，其特征在于，采用權利要求1至4任一項所述的設備進行清潔，所述清潔方法包括：

根據待清潔電路卷帶表面目標清潔區域的清潔需求，初始化所述激光發射源的激光束的參數信息；

將所述待清潔電路卷帶固定于所述承載臺上；

調整所述激光發射源的位置，使得所述目標清潔區域位于所述激光束的掃描范圍內；

控制所述激光源將所述激光束發射至所述目標清潔區域進行激光掃描，以將所述目標清潔區域的污染物清除；其中，

在所述激光束對所述目標清潔區域進行激光掃描清除污染物時，所述集塵裝置收集污染物清除時產生的揮發物和粉塵。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述控制所述激光源將所述激光束發射至所述目標清潔區域進行激光掃描，以將所述目標清潔區域的污染物清除，包括：

控制所述激光束對所述目標清潔區域進行激光掃描，在所述目標清潔區域形成多個深度范圍為1um～3um的清潔槽。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述集塵裝置包括真空吸塵件和過濾件；所述集塵裝置收集污染物清除時產生的揮發物和粉塵，包括：

通過所述真空吸塵件將所述揮發物和粉塵吸入所述集塵裝置；

通過所述過濾件將吸入的所述揮發物和粉塵進行過濾。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述激光清潔設備還包括設置于所述承載臺的冷卻裝置，所述清潔方法還包括：

在所述激光束對所述目標清潔區域進行激光掃描清除污染物時，通過所述冷卻裝置驅走激光掃描清除污染物時產生的熱量。

9.根據權利要求5至8任一項所述的方法，其特征在于，所述控制所述激光源將所述激光束發射至所述目標清潔區域進行激光掃描，以將所述目標清潔區域的污染物清除之后，所述方法還包括：

對清除污染物后的目標清潔區域進行成分檢測；其中，

若未檢測到所述污染物，也未檢測到其他物質產生，則判定完成所述目標清潔區域的清潔。

10.根據權利要求5至8任一項所述的方法，其特征在于，所述根據待清潔電路卷帶表面目標清潔區域的清潔需求，初始化所述激光發射源的激光束的參數信息，包括：

根據待清潔電路卷帶表面目標清潔區域的清潔需求，將所述激光束的參數信息設置為：采用UV激光，激光波長范圍為300nm～400nm，激光功率范圍為40W～60W，掃描速度的范圍為350mm/s～450mm/s。