[發(fā)明專利]電子電路用超薄壓延光箔加工工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310369420.6 | 申請(qǐng)日： | 2023-04-07 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN116371920A | 公開（公告）日： | 2023-07-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 曹衛(wèi)建;王寶忠;張西良;劉洪昌;趙國(guó)天 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 江蘇亨通精密銅業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B21B1/40 | 分類號(hào)： | B21B1/40;C22F1/08;C21D9/46;C21D9/52;C23G5/024;C23G5/04;C21D9/673;C21D9/68;B21B15/00 |
| 代理公司： | 蘇州大成君合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32547 | 代理人： | 張伯坤 |
| 地址： | 215234 江蘇省*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電子電路 超薄 壓延 加工 工藝 | ||
本發(fā)明的目的在于揭示一種電子電路用超薄壓延光箔加工工藝，包括以下步驟：將厚度為0.15mm?0.2mm的銅帶通過多道次軋制至厚度為6μm?20μm的第一光箔；所述第一光箔通過兩道碳?xì)涿撝瑒┤芤哼M(jìn)行清洗；清洗后的所述第一光箔進(jìn)行干燥；干燥后的所述第一光箔經(jīng)除皺輥后進(jìn)行收卷，所述除皺輥的兩端對(duì)稱設(shè)置第一斜紋輥面和第二斜紋輥面，所述第一光箔進(jìn)行罩式退火得到第二光箔；有益效果是：第一光箔通過除皺輥后進(jìn)行收卷，除皺輥的兩端對(duì)稱設(shè)置第一斜紋輥面和第二斜紋輥面，而除皺輥的中部為光輥，通過第一斜紋輥面和第二斜紋輥面的表面斜紋對(duì)起皺的光箔進(jìn)行展平，在保障絕大部分寬度的超薄壓延光箔通過光輥情況下實(shí)現(xiàn)展平，實(shí)現(xiàn)消除褶皺情況下收卷超薄壓延光箔。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及新能源用超薄銅箔加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電子電路用超薄壓延光箔加工工藝。
背景技術(shù)
壓延光箔廣泛應(yīng)用于撓性覆銅板(FCCL)、撓性線路板(FPC)、5G通訊、6G通訊、電磁屏蔽、散熱基板、石墨烯薄膜制備、航空航天、鋰電池、LED、智能汽車、無人機(jī)、可穿戴電子產(chǎn)品等行業(yè)領(lǐng)域。壓延光箔因厚度為微米級(jí)，軋制減薄后進(jìn)行清洗脫脂，在清洗脫脂過程中容易起皺，導(dǎo)致收卷后的壓延光箔質(zhì)量不合格，另外，由于壓延光箔在清洗脫脂過程中，因張力不均問題也容易起皺，甚至導(dǎo)致壓延光箔斷裂，嚴(yán)重影響清洗脫脂效率。
鑒于此，亟需開發(fā)一種電子電路用超薄壓延光箔加工工藝，以克服上述缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于揭示一種電子電路用超薄壓延光箔加工工藝，將厚度為6μm-20μm的第一光箔進(jìn)行兩道碳?xì)涿撝瑒┤芤哼M(jìn)行清洗和干燥后，再通過除皺輥后進(jìn)行收卷，實(shí)現(xiàn)消除褶皺情況下收卷超薄壓延光箔。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供一種電子電路用超薄壓延光箔加工工藝，包括以下步驟：
將厚度為0.15mm-0.2mm的銅帶通過多道次軋制至厚度為6μm-20μm的第一光箔；
所述第一光箔通過兩道碳?xì)涿撝瑒┤芤哼M(jìn)行清洗；
清洗后的所述第一光箔進(jìn)行干燥；
干燥后的所述第一光箔經(jīng)除皺輥后進(jìn)行收卷，所述除皺輥的兩端對(duì)稱設(shè)置第一斜紋輥面和第二斜紋輥面；
所述第一光箔進(jìn)行罩式退火得到第二光箔。
優(yōu)選地，所述多道次軋制的軋制道次為6次-10次。
優(yōu)選地，所述罩式退火的熱處理溫度為200℃-350℃，升溫3h-6h，保溫5h-12h；退火后水冷至室溫。
優(yōu)選地，所述第一斜紋輥面和第二斜紋輥面的寬度分別為10mm-50mm。
優(yōu)選地，所述第一斜紋輥面和第二斜紋輥面的斜紋延長(zhǎng)相交后呈V型。
優(yōu)選地，所述第一光箔經(jīng)過沿高度方向交錯(cuò)設(shè)置的第一排導(dǎo)輥及第二排導(dǎo)輥進(jìn)行干燥，所述第一排導(dǎo)輥的導(dǎo)輥數(shù)量比所述第二排導(dǎo)輥的導(dǎo)輥數(shù)量多一；
所述第一光箔自所述第一排導(dǎo)輥導(dǎo)入并穿梭于所述第一排導(dǎo)輥和所述第二排導(dǎo)輥，基材自所述第一排導(dǎo)輥導(dǎo)出。
優(yōu)選地，所述第一排導(dǎo)輥包括第一上導(dǎo)輥、第二上導(dǎo)輥、第三上導(dǎo)輥和第四上導(dǎo)輥；所述第二排導(dǎo)輥包括第一下導(dǎo)輥、第二下導(dǎo)輥和第三下導(dǎo)輥。
優(yōu)選地，所述第一排導(dǎo)輥和所述第二排導(dǎo)輥均為主動(dòng)輥。
優(yōu)選地，所述第一光箔進(jìn)行清洗、干燥及收卷時(shí)牽引張力為200N-500N。
優(yōu)選地，所述第一光箔進(jìn)行清洗的線速度為30m/min-60m/min。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：
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