[發(fā)明專利]一種自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物及其制備方法和光固化樹脂組合物及其應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310360576.8 | 申請(qǐng)日: | 2023-04-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116217936A | 公開(公告)日: | 2023-06-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐嘉;帥寶玉;關(guān)文超;高天宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州愛科自動(dòng)化技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C08G77/20 | 分類號(hào): | C08G77/20;B31F1/10;C08G77/28;C08G77/14;C08F283/12;C08F283/00;C08F222/14;C08F222/20;C08F2/48 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 溫可睿 |
| 地址: | 311401 浙江省杭州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 自由基 陽離子 混雜 引發(fā) 體系 低聚物 及其 制備 方法 光固化 樹脂 組合 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明提供了一種自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物及其制備方法和光固化樹脂組合物及其應(yīng)用,低聚物制備原料包括質(zhì)量比為(112~113):(16~17):(18~19):(34~35):(46~47)的正硅酸乙酯、3?甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3?巰丙基三甲氧基硅烷、三甲氧基苯基硅烷和六甲基二硅氧烷。該自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物具有不飽和雙鍵和環(huán)氧基,其引發(fā)制備的光固化樹脂組合物的性能提高,如表面硬度、拉伸強(qiáng)度、沖擊強(qiáng)度、彎曲強(qiáng)度等;臨界曝光時(shí)間減少。光固化樹脂組合物制備的聚合物壓痕刀模對(duì)包裝紙張的壓痕精度、壓痕效果及刀模自身使用壽命均有明顯提升。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光固化樹脂技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物及其制備方法和光固化樹脂組合物及其應(yīng)用。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)包裝壓痕行業(yè)大多使用金屬作為刀片,將刀片通過特定的工具成型為設(shè)計(jì)圖紙上的圖形,然后鑲嵌在木板上形成壓痕模具。但傳統(tǒng)刀模成型需要的工序很多,從金屬原料到可以適用的刀模的時(shí)間較長(zhǎng);金屬原材料和人工成本相對(duì)較高。由于每一種金屬刀模對(duì)應(yīng)特定的圖形,如需更換圖形就需要更換刀模,使得鑲嵌在木板上的刀模必須儲(chǔ)存起來,這就需要大量的存儲(chǔ)空間。因此,急需開發(fā)一種能夠替代金屬刀模的聚合物壓痕刀模。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物及其制備方法和光固化樹脂組合物及其應(yīng)用,該自由基/陽離子混雜引發(fā)體系光固化樹脂組合物具有優(yōu)異的性能,比如拉伸強(qiáng)度、沖擊強(qiáng)度、彎曲強(qiáng)度等。
本發(fā)明提供了一種自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物,制備原料包括質(zhì)量比為(112~113):(16~17):(18~19):(34~35):(46~47)的正硅酸乙酯、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巰丙基三甲氧基硅烷、三甲氧基苯基硅烷和六甲基二硅氧烷。
在本發(fā)明中,制備原料還包括混合容劑,所述混合容劑包括體積比為200:10:100的去離子水、質(zhì)量濃度為37%的鹽酸和無水乙醇。
本發(fā)明提供了一種上述技術(shù)方案所述自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物的制備方法,包括以下步驟:
將正硅酸乙酯、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巰丙基三甲氧基硅烷和三甲氧基苯基硅烷混合,42~48℃下反應(yīng)110~130min,滴加六甲基二硅氧烷,48~53℃下繼續(xù)反應(yīng)5.5~6.5h,得到反應(yīng)液;
將所述反應(yīng)液離心,取油相洗滌至pH值7~7.5,減壓蒸餾,得到自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物。
在本發(fā)明具體實(shí)施例中,所述正硅酸乙酯、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巰丙基三甲氧基硅烷和三甲氧基苯基硅烷的質(zhì)量比為112.4:16.43:18.24:34.7;混合物在45℃下反應(yīng)2h;滴加六甲基二硅氧烷的速率為每秒1滴,在50℃下反應(yīng)6h,得到反應(yīng)液。離心的轉(zhuǎn)速為8000rpm,離心的時(shí)間為30min。
本發(fā)明提供了一種自由基/陽離子混雜引發(fā)體系光固化樹脂組合物,以質(zhì)量份數(shù)計(jì),包括以下組分:
自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物25~60份,丙烯酸酯類低聚物15~30份,丙烯酸酯類活性單體20~40份,自由基光引發(fā)劑3~5份,陽離子光引發(fā)劑3~5份和助劑0.05~2份;
所述自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物為上述技術(shù)方案所述的自由基/陽離子混雜引發(fā)體系低聚物。
在本發(fā)明中,所述丙烯酸酯類低聚物選自25℃下粘度為50000~100000cps的聚氨酯丙烯酸酯、25℃下粘度為200000~400000cps的環(huán)氧丙烯酸酯、60℃下粘度為220000~450000cps的脂環(huán)族聚氨酯丙烯酸酯和60℃下粘度為400000~500000的環(huán)氧丙烯酸酯中的一種或多種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于杭州愛科自動(dòng)化技術(shù)有限公司,未經(jīng)杭州愛科自動(dòng)化技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202310360576.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 混雜膜、包括該混雜膜的防反射膜、光學(xué)產(chǎn)品和恢復(fù)該混雜膜的除霧性能的方法
- 信息處理設(shè)備、信息存儲(chǔ)媒體、內(nèi)容管理系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理方法、以及計(jì)算機(jī)程序
- 混雜共聚物組合物
- 環(huán)保塑木復(fù)合板及其制造方法
- 石墨烯-陶瓷混雜涂層及其制備方法
- 多語言混雜模型建立、數(shù)據(jù)獲取方法及裝置、電子設(shè)備
- 一種基于故障混雜模型的機(jī)電系統(tǒng)故障傳播分析方法
- 低成本制備基于連續(xù)C與SiC束間混雜纖維增強(qiáng)碳化硅復(fù)合材料的方法及其產(chǎn)品
- 一種混雜纖維經(jīng)編格柵
- 使用混雜鍵產(chǎn)生密碼簽名





