[發明專利]一種可穩定鍍膜的鍍膜機

在審

• 申請號: 202310356311.0
• 申請日: 2023-04-06
• 公開（公告）號: CN116426885A
• 公開（公告）日: 2023-07-14
• 發明（設計）人: 盧成;王偉
• 申請（專利權）人: 成都金鴻泰醫療設備有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/54
• 代理公司: 成都其高專利代理事務所(特殊普通合伙) 51244
• 代理人: 賈波

本發明公開了一種可穩定鍍膜的鍍膜機，結合傳感器技術和智能控制技術，實現鍍膜的智能控制，從而有效提高鍍膜的均勻性，并使得光學膜厚均勻性得到有效控制，包括公轉夾具（1）、真空室腔體（6）、真空室門（9）、總控系統，在真空室腔體（6）內設置有電子束蒸發源（4）、修正板系統，所述修正板系統包括可獨立工作的內側修正系統和外側修正系統，所述電子束蒸發源（4）通過升降系統設置在真空室腔體（6）內，電子束蒸發源（4）所在蒸發平面（5）能夠根據鍍膜膜厚形成狀況進行升降；在所述鍍膜機上還設置有用于監測膜厚情況和蒸發平面（5）工作位置的監測系統，且監測系統分別與內側修正系統、外側修正系統及升降系統相連接。

技術領域

本發明涉及光學薄膜制備技術等領域，具體的說，是一種可穩定鍍膜的鍍膜機。

背景技術

光學薄膜的膜厚均勻性是衡量鍍膜機性能的一項重要指標，它影響著光學元件的光譜特性，決定了能達到要求的實際有效鍍膜面積。薄膜厚度分布均勻性是指在公轉夾具上放置的待鍍膜鏡片表面所沉積的薄膜厚度的分布情況。對于高精度、高性能的光學系統，或大口徑的光學元件和批量生產的光學元件，膜厚的均勻分布尤其重要。

電子束蒸發鍍膜機一般由真空室腔體、修正板、公轉夾具、真空室門等所組成，且真空室腔體側的內側門閉合面與真空室門側的外側門閉合面相配合可使真空室腔體和真空室門形成一個有機的整體，對于幾乎所有的電子束蒸發鍍膜機，的需要在鍍膜機內添加修正板對膜厚分布進行嚴格的校正。這是真空鍍膜中改善膜厚分布均勻性的一種重要方法。

在以往的理論研究和實際生產中，當涉及到改善均勻性分布時，最常見的做法是將修正板置于蒸發源的正上方[唐晉發，顧培夫，劉旭，等.?現代光學薄膜技術．杭州：浙江大學出版社，2006:271-?278]。大部分情況下，光學介質薄膜由交替沉積的高低折射率材料組成，由于高低折射率材料蒸發特性不同，很難用一塊修正板同時改善兩種材料的膜厚分布均勻性。此時，通常采用雙蒸發源，雙修正板，修正板置于對應材料正上方的做法，來改善多層膜的膜厚分布。但在實際應用中，考慮到成本和效率等因素，也存在著數量不少的單一蒸發源配置的真空鍍膜設備，一般皆采用單一電子束蒸發源對應一個修正板的設計形式，從而往往會導致鍍膜不均勻的情況發生。

但申請人和發明人在工作過程中，發覺申請名稱為“一種單一電子束蒸發源的鍍膜機”所公開的技術依然存在諸多需要改進的地方，特別是在對修正系統如何智能控制從而更好的達到鍍膜效果方面，更是需要進行大量的創新，因此，在不斷的創造中，誕生了本申請所要求保護的技術方案。

發明內容

本發明的目的在于提供一種可穩定鍍膜的鍍膜機，結合傳感器技術和智能控制技術，實現鍍膜的智能控制，從而有效提高鍍膜的均勻性，并使得光學膜厚均勻性得到有效控制。

本發明通過下述技術方案實現：一種可穩定鍍膜的鍍膜機，包括公轉夾具、真空室腔體、真空室門、總控系統，在真空室腔體內設置有電子束蒸發源、修正板系統，所述修正板系統包括可獨立工作的內側修正系統和外側修正系統，所述電子束蒸發源通過升降系統設置在真空室腔體內，電子束蒸發源所在蒸發平面能夠根據鍍膜膜厚形成狀況進行升降；在所述鍍膜機上還設置有用于監測膜厚情況和蒸發平面工作位置的監測系統，且監測系統分別與內側修正系統、外側修正系統及升降系統相連接。

進一步為更好地實現本發明所述的一種可穩定鍍膜的鍍膜機，特別采用下述設置結構：所述監測系統包括單片機、信號處理電路A、第一紅外傳感器、信號處理電路B、第二紅外傳感器、信號處理電路C及第三紅外傳感器，所述單片機分別連接信號處理電路A、信號處理電路B及信號處理電路C，信號處理電路A連接第一紅外傳感器，信號處理電路B連接第二紅外傳感器，信號處理電路C連接第三紅外傳感器，單片機連接總控系統；所述第一紅外傳感器設置在公轉夾具的中心頂點；所述第二紅外傳感器設置在公轉夾具上，且位于內側修正系統的上方；所述第三二紅外傳感器設置在公轉夾具上，且位于外側修正系統的上方。