[發(fā)明專利]一種干涉式集成光學陀螺及其光纖耦合方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202310322572.0 | 申請日： | 2023-03-30 |
| 公開（公告）號： | CN116007605B | 公開（公告）日： | 2023-06-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 左文龍;杜江兵;劉伯晗;趙衍雙;楊正 | 申請（專利權）人： | 中國船舶集團有限公司第七〇七研究所 |
| 主分類號： | G01C19/72 | 分類號： | G01C19/72;G01C25/00;G02B6/293 |
| 代理公司： | 天津展譽專利代理有限公司 12221 | 代理人： | 陳欣 |
| 地址： | 300130 天*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 干涉 集成 光學 陀螺 及其 光纖 耦合 方法 | ||
1.一種干涉式集成光學陀螺的光纖耦合方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1.在集成部分的光學傳播部件的鈮酸鋰層上設定光路導通連接位置，并在光路導通連接位置刻蝕導光光柵；
S2.使非集成的光纖環(huán)圈的輸入與輸出的光纖對準導光光柵；
S3.通過調整光纖與豎直方向的夾角與刻蝕高度，使光纖與導光光柵之間形成最大的耦合效率,調整最大的耦合效率，通過如下公式進行調整：
，
其中為光纖出光平均波長，n1為鈮酸鋰層折射率，θ是光纖與豎直方向的夾角，為導光光柵的光柵周期，a1為高度系數(shù)，h為導光光柵的刻蝕高度。
2.根據(jù)權利要求1所述的光纖耦合方法，其特征在于，高度系數(shù)a1是通過刻蝕高度函數(shù)的耦合器效率曲線確定。
3.根據(jù)權利要求2所述的光纖耦合方法，其特征在于，確定刻蝕高度函數(shù)的方法包括如下步驟：
S10.確定導光光柵有效折射率和刻蝕高度、光柵周期的關系公式：
，其中為刻蝕高度h函數(shù)，m為衍射級數(shù)；
S20.令m=1時，使導光光柵具有最大耦合效率；
S30.通過改變刻蝕高度h，測量光學傳播部件的出光功率，得到刻蝕高度h和耦合效率的函數(shù)，即刻蝕高度函數(shù)。
4.根據(jù)權利要求2所述的光纖耦合方法，其特征在于，當刻蝕高度h為0.15um時耦合效率最大。
5.根據(jù)權利要求3所述的光纖耦合方法，其特征在于，將擬合為：，通過步驟S30確定的刻蝕高度函數(shù)的耦合器效率曲線，確定高度系數(shù)a1取值。
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