[發(fā)明專利]一種超聲波指紋模組的制備方法

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• 申請日: 2023-03-24
• 公開（公告）號: CN116322268A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設計）人: 李萍;邱歡;蔣志利
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江水晶光電科技股份有限公司
• 主分類號: H10N30/076
• 分類號: H10N30/076;H10N30/30;H10N30/87;G06V40/13
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 王震

一種超聲波指紋模組的制備方法，涉及指紋識別技術(shù)領域。該超聲波指紋模組的制備方法包括：在基板上形成壓電層；采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層。該超聲波指紋模組的制備方法采用氣相沉積的方式制備導電層，能夠提高導電層的均勻性和尺寸精度，進而極大程度上提高了超聲波信號均勻性，使超聲波指紋模組具有更好的測試性能及貼屏效果。

技術(shù)領域

本發(fā)明涉及指紋識別技術(shù)領域，具體而言，涉及一種超聲波指紋模組的制備方法。

背景技術(shù)

超聲波指紋識別模組包括作為電極的基板、壓電層、導電層以及保護層，壓電層涂覆在基板上發(fā)射和接受超聲波信號；導電層在壓電層上與基板形成一組電極，傳遞信號；保護層覆蓋于導電層上，保護導電層。其中，導電層通過絲印方式將導電材料涂布至壓電材料上。

采用絲印方式將導電材料涂布至壓電材料上，主要缺陷有：1)導電材料厚度均勻性不易控制，厚度不均勻影響超聲波指紋模組性能；2)絲印方式會導致嚴重的牛角問題，絲印次數(shù)越多，牛角越嚴重，導致測試影像不均勻，并影響超聲波指紋模組貼屏效果；3)絲印方式存在溢膠問題，導電層尺寸精度較低；4)絲印方式涂布導電層必須在其表面增加一層保護層，以防止氧化、水汽進入等影響性能，增加制樣工序及成本。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種超聲波指紋模組的制備方法，能夠提高導電層的均勻性和尺寸精度，進而提高超聲波指紋模組的測試性能及貼屏效果。

本發(fā)明的實施例是這樣實現(xiàn)的：

本發(fā)明實施例提供一種超聲波指紋模組的制備方法，包括：在基板上形成壓電層；采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層。

可選地，采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層包括：采用物理氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層。

可選地，采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層包括：采用化學氣相沉積的方式使導電金屬在壓電層的表面進行化學反應以形成導電層。

可選地，采用物理氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層包括：采用真空濺射或真空蒸鍍的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層。

可選地，采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層之后，方法還包括：在導電層上形成第一光刻膠層，其中，第一光刻膠層部分覆蓋導電層，且第一光刻膠層在基板上的正投影與基板上的焊盤不重合；根據(jù)第一光刻膠層的圖案刻蝕導電層和壓電層，以將焊盤露出；去除第一光刻膠層以將導電層露出。

可選地，在導電層上形成第一光刻膠層，其中，第一光刻膠層部分覆蓋導電層，且第一光刻膠層在基板上的正投影與基板上的焊盤不重合包括：在導電層上涂布光刻膠；對光刻膠進行曝光、顯影以形成第一光刻膠層，其中，第一光刻膠層部分覆蓋導電層，且第一光刻膠層在基板上的正投影與基板上的焊盤不重合。

可選地，在基板上形成壓電層之后，方法還包括：在壓電層上形成第二光刻膠層，其中，第二光刻膠層部分覆蓋壓電層，且第二光刻膠層在基板上的正投影覆蓋基板上的焊盤；采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層包括：采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層和第二光刻膠層上以形成導電層；采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層和第二光刻膠層上以形成導電層之后，方法還包括：去除第二光刻膠層及覆蓋在第二光刻膠層上的導電層；在剩余的導電層上形成第三光刻膠層；根據(jù)第三光刻膠層的圖案刻蝕壓電層，以將焊盤露出；去除第三光刻膠層。

可選地，采用氣相沉積的方式將導電金屬沉積在壓電層上以形成導電層之后，方法還包括：在導電層上形成保護層。

可選地，導電金屬為鋁、鈦、金或銀中的至少一種。

可選地，導電金屬為鎢、鉬或鉑中的至少一種。

本發(fā)明實施例的有益效果包括：