[發明專利]用于晶粒觀測的樣品的制備方法在審
| 申請號： | 202310295625.4 | 申請日： | 2023-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN116337909A | 公開（公告）日： | 2023-06-27 |
| 發明（設計）人： | 劉燕;汪聰穎;陳國興 | 申請（專利權）人： | 上海新傲科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N23/2202 | 分類號： | G01N23/2202;G01N23/2251;G01N1/32 |
| 代理公司： | 上海盈盛知識產權代理事務所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孫佳胤 |
| 地址： | 201821 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 晶粒 觀測 樣品 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于晶粒觀測的樣品的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
提供一晶圓，所述晶圓表面為多晶硅層；
采用HF溶液腐蝕所述多晶硅層表面的氧化物；
采用CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液腐蝕所述晶圓表面的多晶硅層，形成用于晶粒觀測的樣品。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在采用CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液腐蝕所述晶圓表面的多晶硅層后，再次采用HF溶液腐蝕所述多晶硅層表面的氧化物。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，采用HF溶液腐蝕所述多晶硅層表面的氧化物的時間為5～30s。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，采用CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液腐蝕所述多晶硅層的時間為5～30s。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所采用的HF溶液的濃度為49％。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述CH3OOCH、HNO3、HF、以及KI的混合溶液中，CH3OOCH：HNO3：HF的體積比在(20～30)：
(25～40)：(0.5～2)之間，KI的濃度在0.1g/100ml～0.4g/100ml之間。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在掃描透射顯微鏡下觀測所述多晶硅層的晶粒。
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