[發(fā)明專(zhuān)利]發(fā)光渲染方法、裝置、電子設(shè)備及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310264171.4
• 申請(qǐng)日: 2023-03-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN116310058A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐自煥
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 網(wǎng)易（杭州）網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06T15/50
• 分類(lèi)號(hào): G06T15/50;G06T15/55;A63F13/60
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 王煥煥

1.一種發(fā)光渲染方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取待渲染對(duì)象的初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息；

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息以及所述待渲染對(duì)象的目標(biāo)發(fā)光區(qū)域，得到所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移信息；

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移信息，對(duì)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)進(jìn)行拉伸偏移，得到目標(biāo)發(fā)光模型；

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息，對(duì)所述目標(biāo)發(fā)光模型進(jìn)行像素著色，以渲染所述待渲染對(duì)象的發(fā)光特效。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息以及所述待渲染對(duì)象的目標(biāo)發(fā)光區(qū)域，得到所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移信息，包括：

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向；

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向以及所述待渲染對(duì)象的目標(biāo)發(fā)光區(qū)域，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移距離；

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向和拉伸偏移距離，得到所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移信息。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向，包括：

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息，確定所述二維紋理坐標(biāo)系下的參考紋理坐標(biāo)；所述參考紋理坐標(biāo)包括所述初始發(fā)光模型中負(fù)責(zé)所述發(fā)光特效中高亮部分的至少一個(gè)頂點(diǎn)在所述二維紋理坐標(biāo)系下的紋理坐標(biāo)；

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)與所述參考紋理坐標(biāo)的相對(duì)位置，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述初始發(fā)光模型和所述待渲染對(duì)象為條狀；所述根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)與所述參考紋理坐標(biāo)的相對(duì)位置，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向，包括：

根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)與所述參考紋理坐標(biāo)的相對(duì)位置，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)中的第一頂點(diǎn)和第二頂點(diǎn)；所述第一頂點(diǎn)和所述第二頂點(diǎn)基于所述參考紋理坐標(biāo)對(duì)稱；

將所述第一頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)遠(yuǎn)離所述參考紋理坐標(biāo)的方向確定為所述第一頂點(diǎn)的拉伸偏移方向；

將所述第二頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)遠(yuǎn)離所述參考紋理坐標(biāo)的方向確定為所述第二頂點(diǎn)的拉伸偏移方向。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述初始發(fā)光模型的寬度小于所述待渲染對(duì)象的寬度。

6.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移方向以及所述待渲染對(duì)象的目標(biāo)發(fā)光區(qū)域，確定所述初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)的拉伸偏移距離，包括：

確定所述初始發(fā)光模型中的拉伸偏移方向不同且相鄰的多個(gè)目標(biāo)頂點(diǎn)；

根據(jù)各所述目標(biāo)頂點(diǎn)的拉伸偏移方向、各所述目標(biāo)頂點(diǎn)的當(dāng)前位置以及所述目標(biāo)發(fā)光區(qū)域的邊界位置，得到各所述目標(biāo)頂點(diǎn)的拉伸偏移距離；

根據(jù)各所述目標(biāo)頂點(diǎn)的拉伸偏移方向以及拉伸偏移距離，確定所述初始發(fā)光模型中與各所述目標(biāo)頂點(diǎn)的拉伸偏移方向相同的頂點(diǎn)的拉伸偏移距離。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述獲取待渲染對(duì)象的初始發(fā)光模型中各頂點(diǎn)在二維紋理坐標(biāo)系下的目標(biāo)紋理坐標(biāo)以及目標(biāo)紋理坐標(biāo)對(duì)應(yīng)的像素信息之前，所述方法還包括：

獲取所述待渲染對(duì)象中的第一骨骼頂點(diǎn)以及與所述第一骨骼頂點(diǎn)綁定的目標(biāo)骨骼；

根據(jù)所述待渲染對(duì)象中的第一骨骼頂點(diǎn)確定所述初始發(fā)光模型中對(duì)應(yīng)的第二骨骼頂點(diǎn)；

將所述初始發(fā)光模型中的第二骨骼頂點(diǎn)與所述目標(biāo)骨骼進(jìn)行綁定。