[發明專利]一種濺射靶材的清洗方法在審
| 申請號： | 202310255626.6 | 申請日： | 2023-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN116219440A | 公開（公告）日： | 2023-06-06 |
| 發明（設計）人： | 姚力軍;潘杰;王學澤;張萍萍 | 申請（專利權）人： | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號： | C23F4/00 | 分類號： | C23F4/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659 | 代理人： | 徐浩 |
| 地址： | 315400 浙江省寧波市*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 濺射 清洗 方法 | ||
1.一種濺射靶材的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步驟：
真空條件下，干式等離子清洗濺射靶材；
所述干式等離子清洗所用清潔氣體包括氧氣與氬氣的混合氣體。
2.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述混合氣體中氧氣的體積分數≤30％。
3.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述混合氣體中氧氣的體積分數為10-30％。
4.根據權利要求1-3任一項所述的清洗方法，其特征在于，所述清潔氣體的流量為300-600sccm。
5.根據權利要求1-4任一項所述的清洗方法，其特征在于，所述真空條件的絕對壓力為1-100Pa。
6.根據權利要求1-5任一項所述的清洗方法，其特征在于，所述干式等離子清洗的功率為500-700w。
7.根據權利要求6所述的清洗方法，其特征在于，所述干式等離子清洗采用脈沖電源；
優選地，所述脈沖電源的頻率為20-30kHz。
8.根據權利要求6或7所述的清洗方法，其特征在于，所述干式等離子清洗的時間為80-100s。
9.根據權利要求1-8任一項所述的清洗方法，其特征在于，所述濺射靶材包括金屬靶材；
優選地，所述金屬靶材包括銅靶材、銅合金靶材、鋁靶材、鋁合金靶材、鈦靶材、鈦合金靶材、鉬靶材或鉬合金靶材中的任意一種或至少兩種的組合。
10.根據權利要求1-9任一項所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步驟：
絕對壓力為1-100Pa的真空條件下，使用頻率為20-30kHz的脈沖電源干式等離子清洗濺射靶材80-100s；所述干式等離子清洗的功率為500-700w；
所述干式等離子清洗所用清潔氣體包括氧氣與氬氣的混合氣體，其中氧氣的體積分數≤30％；所述清潔氣體的流量為300-600sccm；
所述濺射靶材包括銅靶材、銅合金靶材、鋁靶材、鋁合金靶材、鈦靶材、鈦合金靶材、鉬靶材或鉬合金靶材中的任意一種或至少兩種的組合。
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