[發明專利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202310215173.4
• 申請日: 2023-02-28
• 公開（公告）號: CN116156957A
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 賈倩;周婷婷;王英濤;柳在健;李浩坤;孫雪菲
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H10K59/122
• 分類號: H10K59/122;H10K59/123;H10K59/121
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 蔣冬梅;曲鵬

1.一種顯示基板，其特征在于，包括：襯底基板以及設置在所述襯底基板上的像素定義層和第一電極，所述像素定義層包括：開口，所述第一電極的側壁呈臺階狀，所述開口暴露出所述第一電極；

所述像素定義層至少覆蓋所述第一電極的部分側壁，所述第一電極遠離所述襯底基板的表面在所述襯底基板上正投影位于所述開口在所述襯底基板上的正投影之內。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一電極包括：第一結構和第二結構，所述第一結構位于所述第二結構遠離所述襯底基板的一側；

所述第二結構遠離所述襯底基板的表面在所述襯底基板上的正投影覆蓋所述第一結構在所述襯底基板上的正投影，且所述第二結構的厚度大于所述第一結構的厚度；

所述第二結構的側壁呈臺階狀。

3.根據權利要求2所述的顯示基板，其特征在于，所述第二結構包括：依次疊設在所述襯底基板上的第一子層、第二子層和第三子層；所述第二子層的厚度大于所述第一子層的厚度，且大于所述第三子層的厚度；

所述第一子層遠離所述襯底基板的表面在所述襯底基板上的正投影覆蓋所述第二子層在所述襯底基板上的正投影，所述第二子層靠近所述襯底基板的表面在所述襯底基板上的正投影覆蓋所述第二子層遠離所述襯底基板的表面在所述襯底基板上的正投影，所述第二子層遠離所述襯底基板的表面覆蓋所述第三子層在襯底基板上的正投影；

所述第二子層的側壁呈臺階狀；

所述第二子層的側壁包括：第一斜面、臺階面和第二斜面；

所述臺階面與所述襯底基板平行，所述第一斜面位于所述臺階面遠離所述襯底基板的一側，所述第二斜面位于所述臺階面靠近所述襯底基板的一側，所述臺階面連接所述第一斜面和所述第二斜面。

4.根據權利要求3所述的顯示基板，其特征在于，所述像素定義層包括：疊設在所述襯底基板上的第一無機層和第二無機層，所述第一無機層位于所述第二無機層靠近所述襯底基板的一側，且所述第二無機層在所述襯底基板上的正投影覆蓋所述第一無機層在所述襯底基板上的正投影；

所述第一無機層包括：第一過孔，所述第二無機層包括：第二過孔，所述開口包括：所述第一過孔和所述第二過孔；其中，所述第一過孔在所述襯底基板上的正投影覆蓋所述第二過孔在所述襯底基板上的正投影。

5.根據權利要求4所述的顯示基板，其特征在于，所述第一無機層在所述襯底基板上的正投影與所述第二子層的所述臺階面在所述襯底基板上的正投影至少部分交疊，且與所述第二子層的所述第一斜面在所述襯底基板上的正投影不交疊。

6.根據權利要求5所述的顯示基板，其特征在于，所述第一過孔和所述第二過孔的中心線重合，且垂直于所述襯底基板；

所述第一無機層靠近所述第一電極的側壁與所述第一電極的中心線之間的距離大于或者等于所述第二無機層靠近所述第一電極的側壁與所述第一電極的中心線之間的距離。

7.根據權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，所述第一無機層靠近所述第一電極的側壁與所述第一電極的中心線之間的距離大于所述第二無機層靠近所述第一電極的側壁與所述第一電極的中心線之間的距離時，所述第二無機層在所述襯底基板上的正投影還與所述第二子層的第一斜面在所述襯底基板上的正投影部分交疊，且與所述第一子層在所述襯底基板上的正投影不交疊。