[發(fā)明專利]塞孔結(jié)構(gòu)及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310198666.1 | 申請(qǐng)日: | 2023-03-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN116437570A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳先明;林文健;徐小偉;黃本霞;黃高 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 珠海越亞半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/00 | 分類號(hào): | H05K3/00;H05K1/11;H05K3/40 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 林燦偉 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 結(jié)構(gòu) 及其 制作方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種塞孔結(jié)構(gòu)及其制作方法,涉及半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域。塞孔結(jié)構(gòu)的制作方法包括以下步驟:對(duì)雙面覆銅板進(jìn)行鉆孔,形成貫穿雙面覆銅板上下表面的層間導(dǎo)通孔;在層間導(dǎo)通孔的孔壁及雙面覆銅板的表面制作第一種子層,并在第一種子層的表面電鍍形成銅層;在層間導(dǎo)通孔的內(nèi)部填充樹(shù)脂,使樹(shù)脂與銅層的表面齊平;保留層間導(dǎo)通孔周側(cè)的預(yù)定區(qū)域內(nèi)的銅層和第一種子層,形成孔環(huán),將其余位置的銅層、第一種子層及雙面覆銅板表面的銅箔蝕刻掉;在雙面覆銅板的表面制作第一線路,使第一線路與孔環(huán)電性連接。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的塞孔結(jié)構(gòu)的制作方法,無(wú)需經(jīng)過(guò)兩次電鍍后再制作線路,能夠適用于更精細(xì)的線路的制作。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種塞孔結(jié)構(gòu)及其制作方法。
背景技術(shù)
在印制電路板的制造過(guò)程中,為了滿足層間和過(guò)孔內(nèi)部的導(dǎo)通,通常采用POFV(Plate?Over?Filled?Via)工藝,也就是樹(shù)脂塞孔電鍍填平工藝,其基本的工藝流程是:覆銅板鉆孔→化學(xué)沉銅→整板電鍍→樹(shù)脂塞孔→研磨→整板減薄銅→拋光→化學(xué)沉銅→整板電鍍→線路制作,從此流程中可知其線路制作是在兩次電鍍之后才進(jìn)行的,也就是傳統(tǒng)的Tenting(掩蔽法)工藝,其線路能力受限于此時(shí)的銅厚,銅越厚則精細(xì)線路制作難度越大,該方法不利于精細(xì)線路的制作。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此,本發(fā)明提出了一種塞孔結(jié)構(gòu)及其制作方法,有利于精細(xì)線路的制作。
一方面,根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的塞孔結(jié)構(gòu)的制作方法,包括以下步驟:
對(duì)雙面覆銅板進(jìn)行鉆孔,形成貫穿所述雙面覆銅板上下表面的層間導(dǎo)通孔;
在所述層間導(dǎo)通孔的孔壁及所述雙面覆銅板的表面制作第一種子層,并在所述第一種子層的表面電鍍形成銅層;
在所述層間導(dǎo)通孔的內(nèi)部填充樹(shù)脂,使所述樹(shù)脂與所述銅層的表面齊平;
保留所述層間導(dǎo)通孔周側(cè)的預(yù)定區(qū)域內(nèi)的所述銅層和所述第一種子層,形成孔環(huán),將其余位置的所述銅層、所述第一種子層及所述雙面覆銅板表面的銅箔蝕刻掉;
在所述雙面覆銅板的表面制作第一線路,使所述第一線路與所述孔環(huán)電性連接。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,所述雙面覆銅板包括含玻纖的第一介質(zhì)層、以及覆蓋在所述第一介質(zhì)層的上下表面的銅箔。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,所述銅箔的厚度為1μm-6μm。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,所述在所述層間導(dǎo)通孔的孔壁及所述雙面覆銅板的表面制作第一種子層,并在所述第一種子層的表面電鍍形成銅層的步驟,具體包括:
通過(guò)化學(xué)沉積法,在所述層間導(dǎo)通孔的孔壁及所述雙面覆銅板的表面沉積所述第一種子層;
在所述第一種子層的表面電鍍形成所述銅層。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,所述在所述層間導(dǎo)通孔的內(nèi)部填充樹(shù)脂,使所述樹(shù)脂與所述銅層的表面齊平的步驟,具體包括:
通過(guò)絲網(wǎng)印刷的方式,在所述層間導(dǎo)通孔的內(nèi)部填充所述樹(shù)脂;
通過(guò)烘烤使所述樹(shù)脂固化后,將凸出于所述銅層的表面的樹(shù)脂研磨掉;
對(duì)所述銅層進(jìn)行減薄,并對(duì)凸出于減薄后的所述銅層的表面的樹(shù)脂進(jìn)行拋光或研磨,使所述樹(shù)脂與所述銅層的表面齊平。
根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例,所述在所述雙面覆銅板的表面制作第一線路,使所述第一線路與所述孔環(huán)電性連接的步驟,包括:
在所述雙面覆銅板的表面制作第二種子層;
在所述第二種子層的表面貼第一抗鍍干膜;
對(duì)所述第一抗鍍干膜進(jìn)行曝光顯影,形成對(duì)應(yīng)所述第一線路的第一圖形;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于珠海越亞半導(dǎo)體股份有限公司,未經(jīng)珠海越亞半導(dǎo)體股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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