[發(fā)明專利]目標(biāo)檢測(cè)模型訓(xùn)練方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202310177285.5 | 申請(qǐng)日: | 2023-02-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN116229210B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 單佳煒;張正杰;沈羅豐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南通探維光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06V10/774 | 分類號(hào): | G06V10/774;G06V10/82;G06V10/764;G06N3/082 |
| 代理公司: | 北京開(kāi)陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11710 | 代理人: | 祝樂(lè)芳 |
| 地址: | 226399 江蘇省南通市南通高新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 目標(biāo) 檢測(cè) 模型 訓(xùn)練 方法 裝置 設(shè)備 介質(zhì) | ||
1.一種目標(biāo)檢測(cè)模型訓(xùn)練方法,其特征在于,包括:
根據(jù)預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)內(nèi)的具有時(shí)間序列的所有初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)、以及每幀所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的標(biāo)簽數(shù)據(jù),確定第一訓(xùn)練集,其中,所述標(biāo)簽數(shù)據(jù)是根據(jù)目標(biāo)對(duì)象的標(biāo)注信息確定的;
對(duì)第一訓(xùn)練集中包括的多幀目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行增強(qiáng)處理,得到每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù),其中,所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)是根據(jù)目標(biāo)對(duì)象對(duì)應(yīng)的點(diǎn)云數(shù)據(jù)量在第一訓(xùn)練集中包括的所有初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中確定的;
根據(jù)多幀所述稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)、多幀所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)、以及所有標(biāo)簽數(shù)據(jù),確定第二訓(xùn)練集,其中,多幀所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)為所述第一訓(xùn)練集中除多幀目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)的其他所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù);
利用所述第二訓(xùn)練集,對(duì)教師模型進(jìn)行訓(xùn)練,得到訓(xùn)練好的目標(biāo)教師模型;
利用所述目標(biāo)教師模型、第一訓(xùn)練集以及所述第二訓(xùn)練集,通過(guò)知識(shí)蒸餾方法,對(duì)學(xué)生模型進(jìn)行訓(xùn)練,直至學(xué)生模型收斂,得到目標(biāo)學(xué)生模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對(duì)第一訓(xùn)練集中包括的多幀目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行增強(qiáng)處理,得到每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)之前,還包括:
確定所述每幀所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的各所述目標(biāo)對(duì)象對(duì)應(yīng)的點(diǎn)云數(shù)據(jù)量;
根據(jù)所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)量以及預(yù)設(shè)閾值,在所述第一訓(xùn)練集中確定多幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對(duì)第一訓(xùn)練集中包括的多幀目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中分別對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行增強(qiáng)處理,得到每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù),包括:
根據(jù)多幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中分別對(duì)應(yīng)的各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù),確定各所述目標(biāo)對(duì)象對(duì)應(yīng)的參考稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù);
根據(jù)所述參考稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù),對(duì)每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行增強(qiáng)處理,得到每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)多幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中分別對(duì)應(yīng)的各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù),確定各所述目標(biāo)對(duì)象對(duì)應(yīng)的參考稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù),包括:
將每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)映射至同一雷達(dá)坐標(biāo)系中,并根據(jù)預(yù)設(shè)姿態(tài),調(diào)整各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù);
將調(diào)整后的多幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行組合,得到各所述目標(biāo)對(duì)象對(duì)應(yīng)的參考稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)所述參考稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù),對(duì)每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行增強(qiáng)處理,得到每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù),包括:
確定每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的各所述目標(biāo)對(duì)象的位姿信息;
基于所述位姿信息,將各所述目標(biāo)對(duì)象對(duì)應(yīng)的參考稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)與各所述目標(biāo)對(duì)象的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行組合,得到每幀所述目標(biāo)稀疏點(diǎn)云數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述利用所述目標(biāo)教師模型、第一訓(xùn)練集以及所述第二訓(xùn)練集,通過(guò)知識(shí)蒸餾方法,對(duì)學(xué)生模型進(jìn)行訓(xùn)練,直至學(xué)生模型收斂,得到目標(biāo)學(xué)生模型,包括:
將所述稠密點(diǎn)云數(shù)據(jù)輸入至所述目標(biāo)教師模型,得到第一特征圖、第一回歸結(jié)果以及第一分類結(jié)果;
將所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)輸入至所述學(xué)生模型,得到第二特征圖、第二回歸結(jié)果以及第二分類結(jié)果,其中,所述初始點(diǎn)云數(shù)據(jù)是根據(jù)所述第一訓(xùn)練集得到的;
根據(jù)所述第一特征圖、第一回歸結(jié)果、第一分類結(jié)果、第二特征圖、第二回歸結(jié)果以及第二分類結(jié)果,對(duì)學(xué)生模型進(jìn)行訓(xùn)練,直至學(xué)生模型收斂,得到目標(biāo)學(xué)生模型。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南通探維光電科技有限公司,未經(jīng)南通探維光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202310177285.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 目標(biāo)檢測(cè)裝置、學(xué)習(xí)裝置、目標(biāo)檢測(cè)系統(tǒng)及目標(biāo)檢測(cè)方法
- 目標(biāo)監(jiān)測(cè)方法、目標(biāo)監(jiān)測(cè)裝置以及目標(biāo)監(jiān)測(cè)程序
- 目標(biāo)監(jiān)控系統(tǒng)及目標(biāo)監(jiān)控方法
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤裝置
- 目標(biāo)檢測(cè)方法和目標(biāo)檢測(cè)裝置
- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)跟蹤系統(tǒng)及目標(biāo)跟蹤方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法和檢測(cè)組件
- 檢測(cè)方法、檢測(cè)裝置和檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法以及記錄介質(zhì)
- 檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)和檢測(cè)方法
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)設(shè)備及檢測(cè)方法
- 檢測(cè)芯片、檢測(cè)設(shè)備、檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)組件、檢測(cè)裝置以及檢測(cè)系統(tǒng)
- 檢測(cè)裝置、檢測(cè)方法及檢測(cè)程序
- 檢測(cè)電路、檢測(cè)裝置及檢測(cè)系統(tǒng)
- 等級(jí)精細(xì)視力訓(xùn)練表
- 視覺(jué)盲點(diǎn)演示與旁中心注視訓(xùn)練儀
- 一種訓(xùn)練室
- 視覺(jué)盲點(diǎn)演示與旁中心注視訓(xùn)練儀
- 一種訓(xùn)練室
- 康復(fù)訓(xùn)練器及其定量訓(xùn)練方法和定量訓(xùn)練裝置
- 一種分布式訓(xùn)練中梯度同步方法及裝置
- 訓(xùn)練模型的訓(xùn)練時(shí)長(zhǎng)預(yù)測(cè)方法及裝置
- 一種模型訓(xùn)練方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種計(jì)算機(jī)輔助的自閉癥兒童情感社交康復(fù)訓(xùn)練系統(tǒng)





