[發(fā)明專利]一種用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)及其方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202310162840.7
• 申請(qǐng)日: 2023-02-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115993757A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黎康;彭俊;李曉軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南維勝科技有限公司
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00
• 代理公司: 長(zhǎng)沙市護(hù)航專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 43220
• 代理人: 謝新苗

本發(fā)明具體公開(kāi)了一種用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)及其方法，包括圖像識(shí)別單元、印制電路板和處理器，其中：所述印制電路板上設(shè)有若干個(gè)獨(dú)立且呈矩形的待識(shí)別分區(qū)，每一個(gè)待識(shí)別分區(qū)的四個(gè)角上均設(shè)有對(duì)位孔；圖像識(shí)別單元，與處理器連接，并在處理器的控制下用于識(shí)別抓取對(duì)位孔的坐標(biāo)并傳輸給處理器；處理器，根據(jù)所接收的對(duì)位孔坐標(biāo)計(jì)算坐標(biāo)位置關(guān)系，并基于所計(jì)算的坐標(biāo)位置關(guān)系實(shí)現(xiàn)LDI激光曝光機(jī)與印制電路板的對(duì)位。本發(fā)明以網(wǎng)格區(qū)域化將印制電路板分為若干個(gè)獨(dú)立且設(shè)置有四個(gè)對(duì)位孔的待識(shí)別分區(qū)，有效縮短了X方向和Y方向的識(shí)別距離，進(jìn)而大大提升了LDI激光曝光機(jī)的對(duì)位精度，減少了產(chǎn)品報(bào)廢率，降低了運(yùn)行成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及印制電路板加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)及其方法。

背景技術(shù)

印制電路板，又稱印刷電路板，是電子元器件電氣連接的提供者，采用印制電路板的主要優(yōu)點(diǎn)是大大減少布線和裝配的差錯(cuò)，提高了自動(dòng)化水平和生產(chǎn)勞動(dòng)率。它的設(shè)計(jì)主要是版圖設(shè)計(jì)，而曝光是印制電路板中的一道關(guān)鍵工序。

目前，在LDI激光曝光機(jī)曝光過(guò)程中，因印制電路板產(chǎn)品的自然漲縮失常會(huì)出現(xiàn)對(duì)位偏位導(dǎo)致對(duì)位不準(zhǔn)而造成的報(bào)廢，此不良現(xiàn)象在業(yè)界尚沒(méi)有較好的解決方案，因此，生產(chǎn)過(guò)程中一直存在一定比例的報(bào)廢。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)，包括圖像識(shí)別單元、印制電路板和處理器，其中：

所述印制電路板上設(shè)有若干個(gè)獨(dú)立且呈矩形的待識(shí)別分區(qū)，每一個(gè)待識(shí)別分區(qū)的四個(gè)角上均設(shè)有對(duì)位孔；

圖像識(shí)別單元，與處理器連接，并在處理器的控制下用于識(shí)別抓取對(duì)位孔的坐標(biāo)并傳輸給處理器；

處理器，根據(jù)所接收的對(duì)位孔坐標(biāo)計(jì)算坐標(biāo)位置關(guān)系，基于所計(jì)算的坐標(biāo)位置關(guān)系實(shí)現(xiàn)LDI激光曝光機(jī)與印制電路板的對(duì)位，即可控制LDI激光曝光機(jī)對(duì)印制電路板進(jìn)行曝光。

優(yōu)選地，若干個(gè)所述待識(shí)別分區(qū)為N×M陣列分布，其中，N表示行數(shù)，M表示列數(shù)。

優(yōu)選地，每一個(gè)所述對(duì)位孔的孔徑為0.6-3.5mm。

優(yōu)選地，相鄰兩列所述對(duì)位孔或相鄰兩行所述對(duì)位孔的孔中心最小距離均為220mm。

優(yōu)選地，所述圖像識(shí)別單元包括若干個(gè)并可橫向和縱向位移的圖像識(shí)別單元。

基于此，本發(fā)明還提供了一種用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的方法，所述方法基于上述所述的用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)LDI激光曝光機(jī)與印制電路板的精準(zhǔn)對(duì)位，至少包括以下步驟：

S1、將待曝光的印制電路板進(jìn)行分區(qū)使得該印制電路板上具有若干個(gè)獨(dú)立且呈矩形的待識(shí)別分區(qū)，并在每一個(gè)待識(shí)別分區(qū)的四個(gè)角上均設(shè)置對(duì)位孔；

S2、將所述印制電路板放置在預(yù)設(shè)位置，基于處理器控制圖像識(shí)別單元按列或按行識(shí)別印制電路板上的對(duì)位孔坐標(biāo)，直至完成所述印制電路板上所有對(duì)位孔坐標(biāo)；

S3、處理器根據(jù)所接收的所有對(duì)位孔坐標(biāo)計(jì)算坐標(biāo)位置關(guān)系，并基于所計(jì)算的坐標(biāo)位置關(guān)系完成LDI激光曝光機(jī)與所述印制電路板的精準(zhǔn)對(duì)位，從而實(shí)現(xiàn)所述印制電路板的曝光。

與現(xiàn)有技術(shù)比較，本發(fā)明所提供的用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)及其方法，所述系統(tǒng)以網(wǎng)格區(qū)域化將印制電路板分為若干個(gè)獨(dú)立且設(shè)置有四個(gè)對(duì)位孔的待識(shí)別分區(qū)，有效縮短了圖像識(shí)別單元在X方向和Y方向的對(duì)位孔識(shí)別距離，解決了因前工序漲縮或形變?cè)斐傻挠≈齐娐钒宄叽缍鄻踊鴮?dǎo)致LDI激光曝光機(jī)對(duì)位不準(zhǔn)的問(wèn)題，大大提升了LDI激光曝光機(jī)的對(duì)位精度，而且每個(gè)待識(shí)別分區(qū)均獨(dú)立計(jì)算漲縮，進(jìn)一步保證了對(duì)準(zhǔn)精度，減少了產(chǎn)品報(bào)廢率，降低了運(yùn)行成本。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明一種用于提高LDI激光曝光機(jī)對(duì)位精度的系統(tǒng)中印制電路板的示意圖，